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摘要
倾斜光栅的应用非常广泛，常用于将光耦合到光学光导中，和常规的光栅相
比，倾斜光栅拥有在特定的衍射级上具有很高的衍射效率的优点，近年来由于增
强现实和虚拟现实技术的蓬勃发展，倾斜光栅也备受青睐，离子束刻蚀能实现不
同角度的倾斜光栅刻蚀效果，未来将成为制备倾斜光栅的主要工艺，目前微软、
Facebook等公司已开展技术攻关，但国内的研究还相对较少，在其制备工艺中，
刻蚀深度、倾斜角度和底角的控制都具有制造挑战，针对这些问题，本文采用反
应离子束刻蚀制备倾斜光栅这一工艺，并研究了其工艺参数的影响。
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