HJ1298-2023 电子工业水污染防治可行技术指南.docxVIP

i

HJ1298—2023

目次

前言 ⅱ

1适用范围 1

2规范性引用文件 1

3术语和定义 1

4行业生产与水污染物的产生 2

5污染预防技术 6

6污染治理技术 7

7环境与安全管理措施 11

8污染防治可行技术 13

附录A（资料性附录）典型电子产品生产工艺流程及废水产污环节 19

ii

HJ1298—2023

前言

为贯彻《中华人民共和国环境保护法》《中华人民共和国水污染防治法》等法律，防治环境污染，改善生态环境质量，推动电子工业水污染防治技术进步，制定本标准。

本标准提出了电子工业水污染防治可行技术。

除本标准所列的水污染防治可行技术外，其他可实现电子工业水污染物稳定达标排放的水污染防治技术，也可作为企业技术选择的参考。

本标准的附录A为资料性附录。

本标准为首次发布。

本标准由生态环境部水生态环境司、法规与标准司组织制订。

本标准主要起草单位：中国环境科学研究院、中国电子工程设计院有限公司、中国电子元件行业协会、中国电子电路行业协会、中国半导体行业协会。

本标准生态环境部2023年6月7日批准。

本标准自2023年7月1日起实施。

本标准由生态环境部解释。

1

HJ1298—2023

电子工业水污染防治可行技术指南

1适用范围

本标准提出了电子工业水污染防治可行技术。

本标准可作为电子工业企业或生产设施建设项目及电子工业污水集中处理设施的环境影响评价、国家污染物排放标准制修订、排污许可管理和水污染防治技术选择的参考。

2规范性引用文件

本标准引用了下列文件或其中的条款。凡是注明日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本标准。凡是未注日期的引用文件，其必威体育精装版版本（包括所有的修改单）适用于本标准。

GB/T4754—2017

国民经济行业分类

GB39731

电子工业水污染物排放标准

GB50814

电子工程环境保护设计规范

HJ576

厌氧-缺氧-好氧活性污泥法污水处理工程技术规范

HJ577

序批式活性污泥法污水处理工程技术规范

HJ579

膜分离法污水处理工程技术规范

HJ1031

排污许可证申请与核发技术规范电子工业

HJ1095

芬顿氧化法废水处理工程技术规范

HJ1253

排污单位自行监测技术指南电子工业

HJ2002

电镀废水治理工程技术规范

HJ2006

污水混凝与絮凝处理工程技术规范

HJ2007

污水气浮处理工程技术规范

HJ2009

生物接触氧化法污水处理工程技术规范

HJ2010

膜生物法污水处理工程技术规范

HJ2013

升流式厌氧污泥床反应器污水处理工程技术规范

HJ2014

生物滤池法污水处理工程技术规范

HJ2047

水解酸化反应器污水处理工程技术规范

HJ2058

印制电路板废水治理工程技术规范

3术语和定义

下列术语和定义适用于本标准。3.1

电子工业electronicindustry

包括电子专用材料、电子元件、印制电路板、半导体器件、显示器件及光电子器件、电子终端产品、其他电子设备等电子产品制造业，分别对应GB/T4754—2017中的计算机制造（C391）、电子器件制

2

HJ1298—2023

造（C397）、电子元件及电子专用材料制造（C398）和其他电子设备制造（C399）。3.2

水污染防治可行技术availabletechniquesofwaterpollutionpreventionandcontrol

根据我国一定时期内环境需求和经济水平，在水污染防治过程中综合采用污染预防技术、污染治理技术和环境管理措施，使水污染物排放稳定达到国家污染物排放标准、规模应用的技术。

4行业生产与水污染物的产生

4.1电子专用材料

4.1.1生产工艺

电子专用材料包括电子功能材料、互联与封装材料和工艺与辅助材料。生产工艺包括前处理、刻蚀、电蚀、抛光、清洗、溶铜、表面处理、涂覆、粉碎、研磨等，其典型生产工艺流程及产污环节示意图见附录A的图A.1和图A.2，主要废水产污环节如表1所示。

4.1.2水污染物

水污染物主要来源于前处理、刻蚀、电蚀、抛光、清洗、溶铜、表面处理、涂覆、粉碎、研磨等生产单元的工艺废水和辅助生产系统产生的废水，主要污染物项目有pH值、悬浮物、石油类、化学需氧量（CODCr）、总有机碳（TOC）、氨氮、总氮、总磷、阴离子表面活性剂（LAS）、总氰化物、氟化物、总铜、