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PhotoLithographyTextBookSemiconductortechnologyisverycomplicateandneedcarefulhandlingwhenAllEngineersdoinghisownjobinCleanroom.I’llprepareallkindsoftechnicalmaterialforthispurpose.Itcoversfrombasicitemstoadvanceditems.IhopethismaterialswouldbeusefulforallLithographyEngineers(ProcessEquipment)I’mveryappreciatetohaveachancetosummarizethisdata.Icansaytoeveryonethatit’snotperfectmaterialbutbestone.Thankyouforyourhelp.2023.4.1AlbertChangPreface
Lithographykeywordsdefinition1[1]Designrule:(D/R)Definition:It’susuallydefinedthat“Halfpitchsizeofgatemask(Gatelineisthemostcriticallayer)Thisisthereferenceofsemiconductortechnology:25Logic,22DRAM,18DRAMetcKeyfactorstodecideDesignrule:Lightsource,Lensperformance,Resist,Enhancedprocesstechnologyetc[2]NA(NumericalAperture):Definition:Light-gatheringPower==beproportionatetodiameterofLens(Maxvalueis1)ThisisthebarometerofResolution(Designrule):DoF=k2*(λ/NA2),R=k1*(λ/NA),KeyfactorstoincreaseNA:Lenspolishingtechnology(toControlAberration)[3]PR(PhotoResist):Definition:Photoactivatedmaterials:Usemajor3componentsandhave2typesDifferenttechnologybydifferentlightsource:g-,I-,KrF,ArF,X-ray,e-beametcThisisthe2ndimportanttechnologytoincreaseResolution[4]ARC(Anti-reflectivecoatingmaterial):Definition:Akindoffilmthatreducelightreflectiveproblem(BARC),Standingwaveeffect(TARC)BARC,TARCforeachwavelength(I-line,KrF)==BARCisusefulforL/S,TARCisforHoleprocessTARC:Watersolublematerial,BARC:Organicmaterial(Useoxideetchantavailable)DemeritforTARC:Defectsource(Bubbleissues),forBARC:AddetchprocessandparticlesourceMerit:GoodCDcontrolandreducepatternnotchproblemThesmallerwavelength,thebiggerreflectiveproblemDyedresistisonekindofARCprocess
Lithographykeywordsdefinition1[5]Aberratio
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