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《高分散性二氧化铈抛光液的制备及抛光性能研究》篇一
一、引言
随着科技的发展，抛光技术在工业生产中扮演着越来越重要的角色。其中，高分散性二氧化铈抛光液因其优异的抛光性能和化学稳定性，被广泛应用于半导体、光学器件等领域。本文旨在研究高分散性二氧化铈抛光液的制备方法及其抛光性能，以期为相关领域的生产实践提供理论依据和实验指导。
二、文献综述
在过去的几十年里，国内外学者对二氧化铈抛光液的制备及抛光性能进行了广泛的研究。从实验条件和影响因素等方面对现有研究进行了梳理和评价，发现高分散性二氧化铈抛光液的制备关键在于控制二氧化铈的粒径、形貌和分散性。此外，抛光液的稳定性、抛光速率以及表面粗糙度等指标也是
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