DB34T 3368.2-2019 印制电路板中有害物质分析方法 第2部分:卤素(氯和溴)的测定 离子色谱法  .docxVIP

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ICS31.180L30

DB34

安徽省地方标准DB34/T3368.2—2019

印制电路板中有害物质分析方法

第2部分:卤素(氯和溴)的测定

离子色谱法

MethodsfortheanalysisofharmfulsubstancesinprintedcircuitboardsPart2:Determinationofhalogens(ChlorineandBromine)byionchromatography

2019-07-01发布2019-08-01实施

安徽省市场监督管理局发布

I

DB34/T3368.2—2019

前言

DB34/T3368《印制电路板中有害物质分析方法》共6个部分。

——第1部分:铅、汞、铬、镉和溴的快速筛选X射线荧光光谱法;——第2部分:卤素(氯和溴)的测定离子色谱法;

——第3部分:多溴联苯及多溴二苯醚的测定气相色谱-质谱法;——第4部分:铅和镉的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法;——第5部分:汞含量的测定电感耦合等离子体光谱法;

——第6部分:六价铬含量的测定分光光度法。本部分为第2部分。

本部分按照GB/T1.1-2009给出的规则起草。

本部分由安徽国家铜铅锌及制品质量监督检验中心提出。本部分由安徽省有色金属标准化技术委员会负责归口。

本部分主要起草单位:安徽国家铜铅锌及制品质量监督检验中心。

本部分参与起草单位:铜陵有色金属集团控股有限公司检测研究中心。

本部分主要起草人:臧真娟、晋晓峰、周蕾玲、吴媛霞、汪海、陈庆国、顾菲菲、龚昌合、黄薇薇。

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DB34/T3368.2—2019

印制电路板中有害物质分析方法

第2部分:卤素(氯和溴)的测定离子色谱法

1范围

本部分规定了印制电路板中卤素的离子色谱测定方法的原理、试剂、仪器工具、样品制备、分析步骤、计算、精密度和报告。

本部分适用于离子色谱法测定印制电路板中的卤素含量。

氯离子的方法检出限为0.0009%,溴离子的方法检出限为0.0009%。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅所注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其必威体育精装版版本(包括所有的修改单)适用于本文件。

GB/T6682分析实验室用水规格和试验方法

3原理

样品在氧弹燃烧仪内燃烧被氧化,当碳被转化成二氧化碳时,卤素化合物溶解于吸收溶液中,分别转化为氯化物,溴化物。用离子色谱分析法测定此溶液中的氯、溴的含量。

4试剂

4.1试验用水应符合GB/T6682所规定的一级水。

4.2碳酸钠:分析纯。

4.3碳酸氢钠:分析纯。

4.4高纯氧气:气压为3MPa~4MPa。

4.5氯化物(Cl-)标准贮存溶液:1000μg/mL。4.6溴化物(Br-)标准贮存溶液:1000μg/mL。

4.7碳酸盐—碳酸氢盐混合液:将2.52g碳酸氢钠和2.54g碳酸钠溶解于水并稀释至1L。

5仪器工具

5.1离子色谱仪:配电导检测器。

5.2氧弹燃烧仪:容积不少于200mL,具有清洗系统。5.3粉碎机:粉碎后粒径可达0.5mm及以下。

6样品制备

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DB34/T3368.2—2019

将印制电路板剪切成小于10mm×10mm的方块,经液氮冷却后用粉碎机粉碎成粒径小于0.5mm粉末,混匀。

7分析步骤

7.1测定次数

独立地进行两次测定,取其平均值。7.2空白试验

随同试料做两个空白试验。

7.3试料溶液的制备

7.3.1吸收溶液

7.3.1.1样品中单一卤素浓度不大于0.5%时,选择水为吸收液。

7.3.1.2样品中单一卤素浓度大于0.5%时,选择碳酸盐—碳酸氢盐混合液(4.7)为吸收液。

7.3.2测试液的制备

7.3.2.1称取0.2g~0.3g(精确至0.0001g)粉碎后的样品至样品杯中,在氧弹燃烧仪内加入20mL吸收溶液(4.1或4.7)。将样品置于氧弹燃烧仪内,并将燃烧丝与试样接触,旋上氧弹盖,对氧弹进行充氧。充氧结束后,对氧弹进行泄气(应将氧弹内空气排净)后再充氧,如此重复操作3次。

7.3.2.2点燃氧弹后,放入装有2L冷却水的冷却桶中。每隔3min左右将氧弹取出,轻轻摇晃,使氧弹内燃

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