硅微工艺湿法刻蚀常见材料刻蚀剂和刻蚀速率.pdf

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各种材料的腐蚀剂和腐蚀速率

材料腐蚀剂腐蚀速率

SiHF+HNO+HO最大490um/min

32

SiONHF150g23℃时0.1μm/min

24

HF40%70mL

HO150mL

2

SiN49%HF23℃LPCVDPECVD

34

85%HPO155℃8.0nm/min150.0-300.0nm/min

34

85%HPO180℃1.5nm/min10.0-20.0nm/min

34

12.0nm/min60.0-100.0nm/min

多晶硅HF6mL800nm/min,边缘平整

HNO100mL

3

HO40mL

2

HF1mL150nm/min

HNO26mL

3

CHCOOH33mL

3

铝HCl1mL80℃,细线

H2O2mL

HPO4mL35nm/min,细线,腐蚀GaAs

34

HNO1mL

3

CHCOOH4mL

3

HO1mL

2

KBrO0.1M1um/min,腐蚀时无气体溢出

247

KOH0.51M

KFeCN0.6M

36

HPO16-19mL150.0-250.0nm/min,腐蚀GaAs

34

HNO1mL

3

HO0-4mL

2

金HCl3mL25-50um/min

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