拓荆科技(688072)薄膜沉积设备领军者，技术创新步伐加快-240930-华福证券-20页.pdfVIP

2024年09月30日

公

司拓荆科技（688072.SH）买入（首次评级）

研

究薄膜沉积设备领军者，技术创新步伐加快

基本数据

投资要点：日期2024-09-30

收盘价：144.00元

国内薄膜沉积设备领军者，业绩持续稳定增长总股本/流通股本(百万股)278.32/153.84

流通A股市值(百万元)22,153.01

拓荆科技成立于2010年，公司凭借多年的自主研发经验和技术积每股净资产(元)16.39

累，现已拥有多项具有国际先进水平的核心技术，形成了以PECVD、资产负债率(%)63.51

一年内最高/最低价(元)269.76/101.40

ALD、SACVD及HDPCVD为主的薄膜设备系列产品，在集成电路逻

辑芯片、存储芯片制造等领域得到广泛应用。2023年公司业绩持续稳一年内股价相对走势

公

定增长，营业收入达27.05亿元，同比增长58.60%，归母净利润达6.6

司

亿，销售毛利率达51.01%，同时公司在手订单充足，23年在手订单量

首

超过64亿元。

次

覆半导体设备行业景气度有望回升，未来前景广阔

盖全球半导体设备规模随5G、AI等新兴技术的崛起不断扩大，2023

年受下游芯片周期疲软和终端库存过高的影响市场规模有所下降，预

计2024年需求回暖，市场规模同比增长4%。中国大陆半导体市场不团队成员

断扩大，在终端市场的拉动下，伴随着我国对半导体产业政策扶持，分析师：陈海进(S0210524060003)

中国大陆半导体产业发展迅速，在半导体技术迭代创新、产业生态等chj30590@

分析师：徐巡(S0210524060004)

方面均形成良好效果。xx30511@

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公司大力投入研发，持续丰富产品线

公司持续保持高强度研发投入，目前PECVD产品可以实现全系列