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单晶硅生产废水处理

1、什么是单晶硅？

单晶硅可以用于二极管级、整流器件级、电路级以及太阳能电池级单晶产

品的生产和深加工制造，其后续产品集成电路和半导体分离器件已广泛应

用于各个领域，在军事电子设备中也占有重要地位。

2、单晶硅生产废水如何产生？

单晶硅在生产过程中会产生大量的废水。该废水主要含有硅粉、碳化硅、

聚乙二醇、氢氟酸、柠檬酸、洗涤剂及少量的表面活性剂,综合废水COD及

SS含量较高、可生化性效果差等特点。

3、单晶硅生产废水处理方法简介

某单晶硅厂由于引进6英寸单晶硅抛光生产线,该生产线投产后,废水排放

量将大大的增加.现有的废水处理站的处理能力已不能满中要求.加之原处

理站的处理较果不稳定.因此必须进行治理.因此在原有设施的基础上对废

水处理站进行改造。

3.1现废水处理站接纳废水的水质及水量

现废水处理站接纳三个部位的废水,经均化调节后进行处理.废水的来源水

质.水量见表

3.2：废水来源及水质水量

废水来源

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水量(m3/d)

水质

PH

COD(mg/l)

SS(mg/l)

多晶硅

600

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＜2

300

100--150

切.磨.抛

600--800

6

100--150

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200

有机硅

200

＜3

200--300

100--150

混合后

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1400--1600

＜3

200--250

150--200

3.3废水的特点

废水产生的部门不同,其特点各异

3.3.1：多晶硅废水：是三氯硅烷还原生成多晶硅过程中产生的尾气经水淋

洗产生的.主要反应为：

SiHCl3+H2Si+HCl(产品反应)

SiHCl3+H2OSiO2+HCl(尾气淋洗)

废水中主要物质为：SiO2.HCl硅醇及脱水成聚硅氧烷和硅酸,偏硅酸等.废

呈强酸性,SiO2的粒径极小,大部分聚成团漂浮的水面.

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3.3.2：切.磨.抛废水来自三个工序：(1)切片工序主要为:粘石腊,冷却水

等,废水中主要物质为:石腊,硅粉.(2)磨片工序的磨液成分为:洗液和肥

皂制成浮液.废水中主要物质为:表面活性剂.硅粉.(3)抛光工序的抛光液

的成分:环烷烃,废水中主要物质为:硅粉和烃类有机物.三种废水混合中

灰色有乳状体。

3.3.3：有机硅废水是:由氯丙烷在铂酸作催化剂的条件下,与三氯硅烷加成

反应生成氯丙基三氯硅烷然后经粗精馏后产生的残液和氯丙烯瓶中的残液,

用水冲洗产生的,废水中主要物质为:三氯硅烷,氯丙烷和HCl.氯丙烷和

HCl的来源是氯丙烯水解产生的,故废水呈酸性,反应式为：

CH2=CH-CH-CH2Cl+H2OCH2=CH-CH2-OH=H2O

三部分废水混合后,废水呈酸性,灰的色乳状有降低(强酸有一定的破乳性),

但有胶体存在,主要是硅酸,偏硅酸和硅醇分子间脱水聚缩而成聚硅氧烷引

起的。

3.4处理工艺流程及出水水质

3,4.1：处理工艺流程

3,4.2：出水水质

废水经过上述工艺流程处理的出水水质为：

PH=6-9COD=100160mg/lSS=4060mg/l

BOD值在5--10mg/l之间,有时为零,COD时常超标。

3.5存在问题及分析

3.5.1：根据现废水处理站运行情况，存在问题

1：石灰乳配制及投加不定,