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光学玻璃的真空镀膜技术考核试卷

考生姓名：__________答题日期：__________得分：__________判卷人：__________

一、单项选择题（本题共20小题，每小题1分，共20分，在每小题给出的四个选项中，只

有一项是符合题目要求的）

1.光学玻璃进行真空镀膜的主要目的是：()

A.改善表面光泽

B.提高透光率

C.增强耐磨性

D.降低反射率

2.下列哪种材料常用于光学玻璃的真空镀膜：()

A.铝

B.铬

C.钛

D.硅

3.真空镀膜技术中，以下哪项是蒸发镀膜的基本过程：()

A.离子轰击

B.磁控溅射

C.真空泵抽气

D.蒸发材料加热

4.下列哪种情况可能导致真空镀膜不均匀：()

A.镀膜室压力过高

B.镀膜材料厚度适宜

C.基底温度适宜

D.镀膜时间过长

5.光学玻璃镀膜时，以下哪种方法可以提高膜层与基底的附着力：()

A.降低基底温度

B.提高蒸发速度

C.使用离子轰击

D.增加镀膜时间

6.关于真空镀膜技术的优点，以下哪项是错误的：()

A.节省材料

B.环境污染小

C.成本高

D.适用于复杂形状的基底

7.下列哪种气体不适用于真空镀膜过程中的磁控溅射：()

A.氩气

B.氮气

C.氧气

D.氢气

8.光学玻璃镀膜时，以下哪种因素会影响膜层的折射率：()

A.镀膜材料种类

B.镀膜室压力

C.镀膜时间

D.镀膜基底温度

9.下列哪种现象是真空镀膜过程中可能出现的：()

A.膜层脱落

B.膜层均匀

C.镀膜速率快

D.基底表面出现凹坑

10.关于光学玻璃镀膜工艺，以下哪种说法是错误的：()

A.预处理过程对提高膜层附着力很重要

B.镀膜过程中需要保持真空泵运行

C.镀膜后的光学玻璃可以立即进行后处理

D.镀膜工艺对环境洁净度要求较高

11.下列哪种设备常用于真空镀膜过程中的离子轰击：()

A.电子枪

B.磁控溅射靶

C.离子源

D.真空泵

12.真空镀膜过程中，以下哪种情况可能导致膜层出现针孔：()

A.镀膜材料纯度较高

B.镀膜室压力较低

C.基底温度较高

D.镀膜速率过快

13.下列哪种因素会影响光学玻璃镀膜的耐久性：()

A.镀膜材料种类

B.镀膜基底材质

C.镀膜工艺参数

D.镀膜环境湿度

14.关于真空镀膜技术的应用，以下哪项是错误的：()

A.光学镜头

B.太阳能电池板

C.建筑玻璃

D.电子产品外壳

15.下列哪种方法可以提高光学玻璃镀膜的光学性能：()

A.优化镀膜材料组合

B.增加镀膜层数

C.提高镀膜速率

D.降低镀膜室温度

16.在真空镀膜过程中，以下哪种现象是正常的：()

A.镀膜材料蒸发速度不断加快

B.镀膜室压力持续下降

C.基底温度逐渐升高

D.膜层厚度均匀性较差

17.下列哪种因素会影响真空镀膜设备的选择：()

A.镀膜材料种类

B.镀膜基底尺寸

C.镀膜工艺要求

D.镀膜成本预算

18.关于光学玻璃镀膜工艺的预处理，以下哪种说法是正确的：()

A.预处理过