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去除磷硅玻璃
编辑课件1
什么是磷硅玻璃?
v在扩散过程中发生如下反响:
vPOCl3分解产生的P2O5淀积在硅片外表,P2O5与
Si反响生成SiO2和磷原子:
v这样就在硅片外表形成一层含有磷元素的SiO2,称
之为磷硅玻璃。
编辑课件2
磷硅玻璃的去除
v氢氟酸是无色透明的液体,具有较弱的酸性、
易挥发性和很强的腐蚀性。但氢氟酸具有一
个很重要的特性是它能够溶解二氧化硅,因
此不能装在玻璃瓶中。
v在半导体生产清洗和腐蚀工艺中,主要就利
用氢氟酸的这一特性来去除硅片外表的二氧
化硅层。
编辑课件3
v氢氟酸能够溶解二氧化硅是因为氢氟酸能与二氧化
硅作用生成易挥发的四氟化硅气体。
v假设氢氟酸过量,反响生成的四氟化硅会进一步与
氢氟酸反响生成可溶性的络和物六氟硅酸。
v总反响式为:
编辑课件4
去除磷硅玻璃工艺
清
投
洗
装开片甩
液
片机清干
配
洗
制
编辑课件5
清洗液配制
v将各槽中破损硅片等杂质去除,用去离子水
将各槽壁冲洗干净。
v1号槽中注入一半深度的去离子水,参加氢氟
酸,再注入去离子水至溢流口下边缘。
v向后面的槽中注满去离子水。
编辑课件6
装片
v经等离子刻蚀过的硅片,检验合格后插入承
片盒。
v注意,经过磷扩散处理的外表,刻蚀之后硅
片在插入承片盒时也严格规定了放置方向。
每盒25片,扣好压条,投入清洗设备。
编辑课件7
本卷须知
v在配制氢氟酸溶液时,要穿好防护服,戴好
防护手套和防毒面具。
v不得用手直接接触硅片和承载盒。
v当硅片在1号槽氢氟酸溶液中时,不得翻开设
备照明,防止硅片被染色。
v硅片在两个槽中的停留时间不得超过设定时
间,防止硅片被氧化。
编辑课件8
检验标准
v当硅片从1号槽氢氟酸中提起时,观察其外
是否脱水,如果脱水,那么说明磷硅玻璃已
去除干净;如果外表还沾有水珠,那么说明
磷硅玻璃未被去除干净。
v甩干后,抽取两片硅片,在灯光下目测:外
表枯燥,无水迹及其它污点。
编辑课件9
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