《去除磷硅玻璃》 (2).pdfVIP

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去除磷硅玻璃

编辑课件1

什么是磷硅玻璃?

v在扩散过程中发生如下反响:

vPOCl3分解产生的P2O5淀积在硅片外表,P2O5与

Si反响生成SiO2和磷原子:

v这样就在硅片外表形成一层含有磷元素的SiO2,称

之为磷硅玻璃。

编辑课件2

磷硅玻璃的去除

v氢氟酸是无色透明的液体,具有较弱的酸性、

易挥发性和很强的腐蚀性。但氢氟酸具有一

个很重要的特性是它能够溶解二氧化硅,因

此不能装在玻璃瓶中。

v在半导体生产清洗和腐蚀工艺中,主要就利

用氢氟酸的这一特性来去除硅片外表的二氧

化硅层。

编辑课件3

v氢氟酸能够溶解二氧化硅是因为氢氟酸能与二氧化

硅作用生成易挥发的四氟化硅气体。

v假设氢氟酸过量,反响生成的四氟化硅会进一步与

氢氟酸反响生成可溶性的络和物六氟硅酸。

v总反响式为:

编辑课件4

去除磷硅玻璃工艺

装开片甩

片机清干

编辑课件5

清洗液配制

v将各槽中破损硅片等杂质去除,用去离子水

将各槽壁冲洗干净。

v1号槽中注入一半深度的去离子水,参加氢氟

酸,再注入去离子水至溢流口下边缘。

v向后面的槽中注满去离子水。

编辑课件6

装片

v经等离子刻蚀过的硅片,检验合格后插入承

片盒。

v注意,经过磷扩散处理的外表,刻蚀之后硅

片在插入承片盒时也严格规定了放置方向。

每盒25片,扣好压条,投入清洗设备。

编辑课件7

本卷须知

v在配制氢氟酸溶液时,要穿好防护服,戴好

防护手套和防毒面具。

v不得用手直接接触硅片和承载盒。

v当硅片在1号槽氢氟酸溶液中时,不得翻开设

备照明,防止硅片被染色。

v硅片在两个槽中的停留时间不得超过设定时

间,防止硅片被氧化。

编辑课件8

检验标准

v当硅片从1号槽氢氟酸中提起时,观察其外

是否脱水,如果脱水,那么说明磷硅玻璃已

去除干净;如果外表还沾有水珠,那么说明

磷硅玻璃未被去除干净。

v甩干后,抽取两片硅片,在灯光下目测:外

表枯燥,无水迹及其它污点。

编辑课件9

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