拓荆科技(688072)薄膜沉积设备领军者，技术创新步伐加快.pdfVIP

公司首次覆盖|拓荆科技

正文目录

1拓荆科技：深耕于薄膜沉积设备领域，成就国内行业领军者3

1.1公司股东背景多样，股权结构稳定3

1.2公司盈利能力增强，资源配置不断优化5

2半导体设备需求量快速增长，国产化替代空间巨大7

2.1市场空间：晶圆产能东移，本土企业逐步突破7

2.2半导体薄膜沉积设备市场不断扩大，未来前景广阔8

3持续推进新产品新工艺开发，市场竞争力稳步提升10

3.1PECVD系列设备：技术革新与市场扩展助力产业前沿10

3.2ALD系列设备：多领域创新，材料覆盖面持续扩大12

3.3SACVD、HDPCVD系列设备：技术持续创新，市场应用稳步提升13

3.4混合键合设备：三维集成核心设备，产业化应用步伐加快14

4盈利预测与投资建议16

5风险提示17

图表目录

图表1：公司主要产品介绍3

图表2：公司股权结构4

图表3：公司核心技术人员信息4

图表4：公司营业收入情况（亿元）5

图表5：公司营收结构情况（亿元）5

图表6：公司归母净利润（亿元）5

图表7：可比公司毛利率（%）5

图表8：公司研发费用（亿元）6

华福证券图表9：公司各项费用率（%）6

图表10：公司合同负债及存货（亿元）6

图表11：全球半导体设备市场规模（亿美元）7

图表12：中国大陆半导体设备厂商产品布局8

图表13：全球薄膜沉积设备规模（亿美元）8

图表14：半导体设备国产化率9

图表15：PECVD设备内部示意图10

图表16：公司PECVD设备概况10

图表17：公司UVCure设备概况12

图表18：ALD