北京市平谷区2023-2024学年高三下学期质量监控（零模）化学试题 含解析.docx

平谷区2023-2024学年度第二学期高三年级质量监控

化学试卷

2024.3

注意事项：

1．本试卷共10页，包括两部分，19道小题。满分100分。考试时间90分钟。

2．在答题卡上准确填写学校名称、班级和姓名。

3．试题答案一律填涂或书写在答题卡上，在试卷上作答无效。

4．在答题卡上，选择题用2B铅笔作答，其他试题用黑色字迹签字笔作答。

5．考试结束，请将答题卡交回。

可能用到的相对原子质量：H：1B：11C：12N：14O：16Na：23Cl：35.5Zn：65

第一部分选择题（共42分）

本部分共14小题，每小题3分，共42分。在每小题列出的四个选项中，只有一项是最符合题目要求的，请将正确选项填涂在答题卡上。

1.2023年12月21日，神舟十七号航天员从问天实验舱成功出舱并利用舱外机械臂对太阳翼（太阳能帆板）等设备进行巡检和修复作业。下列说法错误的是

A.制造太阳翼的主要材料中含有高纯度二氧化硅

B.舱外机械臂由合金制成，有高强度、耐腐蚀和耐低温等特性

C.问天实验舱使用了石墨烯导热索技术，石墨烯属于新型无机非金属材料

D.核心舱配置的离子推进器以氙和氩气作为推进剂，氙和氩都属于稀有气体

【答案】A

【解析】

【详解】A．制造太阳翼的主要材料中含有的是晶体硅，故A错误；

B．舱外机械臂主要成分为性能优良的铝合金，有高强度、耐腐蚀和耐低温等特性，故B正确；

C．石墨烯是由碳元素形成的碳单质，属于新型无机非金属材料，故C正确；

D．氙和氩都是位于元素周期表0族的稀有气体，故D正确；

故选A。

2.下列化学用语表述错误的是

A.HClO的电子式：

B.中子数为10的氧原子：

C.分子的VSEPR模型：

D.反-2-丁烯的结构简式：

【答案】C

【解析】

【详解】A．HClO中O元素呈-2价，说明O分别和H、Cl共用一对电子，因此HClO的电子式为，A正确；

B．中子数为10，质子数为8的O原子的质量数为10+8=18，其原子表示为，B正确；

C．NH3分子中，N形成三个N-H键，且N还有1对孤电子对，则其VSEPR模型为四面体型，C错误；

D．反-2-丁烯中两个甲基处于碳碳双键的不同侧，则结构简式：，D正确；

故选C。

3.下列有关微粒性质的排列顺序中，不正确的是

A.原子半径： B.稳定性：

C.第一电离能： D.碱性：

【答案】C

【解析】

【详解】A．一般情况下，电子层数越多的半径越大；当电子层数相同时，质子数越多的半径越小，则原子半径：，故A正确；???????

B．非金属性OSP，则对应氢化物的稳定性：，故B正确；

C．同一周期元素，第一电离能随着原子序数增大而呈增大趋势，但第IIA族、第VA族第一电离能大于其相邻元素，则第一电离能：N＞O＞C，故C错误；??????

?D．元素的金属性越强，对应最高价氧化物的水化物的碱性越强，金属性：，则碱性：，故D正确；

故选C。

4.下列事实不能从平衡移动的角度解释的是

A.溶洞中石笋形成

B.加热可以增强溶液清洗油污的效果

C.实验室用排饱和食盐水法收集氯气

D.压缩盛有和混合气体的针筒，气体颜色变深

【答案】D

【解析】

【详解】A．溶洞中石笋的形成，碳酸钙和水、二氧化碳反应生成微溶的碳酸氢钙，溶有碳酸氢钙的水从溶洞顶向下落时，水分蒸发，二氧化碳压强减小及温度的变化都会使二氧化碳溶解量减小，平衡向碳酸钙析出方向移动，从而形成石笋，可以用平衡移动解释，A正确；

B．加热可以促进碳酸钠溶液中碳酸根离子的水解，溶液碱性增强，有利于油脂水解，可以用平衡移动解释，B正确；

C．氯气和水反应生成盐酸和次氯酸，饱和食盐水中氯离子浓度大，平衡逆向移动，可以抑制氯气的溶解，可以用平衡移动解释，C正确；

D．压缩盛有和混合气体的针筒，体积减小，气体浓度增大，颜色变深，不能用平衡移动解释，D错误；

故选D

5.下列实验装置或操作能够达到实验目的的是

A

B

C

D

转移溶液

制取

保护铁件

验证漂白性

A.A B.B C.C D.D

【答案】A

【解析】

【详解】A．转移溶液时玻璃棒应该伸入容量瓶刻度线以下，操作正确，A符合题意；

B．氯化铵受热分解为氨气和氯化氢，两者在导管口遇冷又会生成氯化铵，不适合制取氨气，B不符合题意；

C．保护铁件应该连接比铁更活泼的金属使得铁被保护，而不是连接惰性电极石墨，C不符合题意；

D．二氧化硫具有漂白性，可使品红褪色，验证漂白性需将其通入到品红溶液中，通入到紫色石蕊试液中只能验证其酸性，D不符合题意；

故选A。

6.下列离子方程式中，错误的是

A.二氧化氮通入水中制硝酸：

B.氯气通入石灰乳中制漂白粉：

C.氯化铝与氨水反应制氢氧化铝：

D.利用覆铜板制作印刷电路