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铜带屏蔽工艺基础知识 .pdfVIP

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铜带屏蔽工艺基础知识

一、金属屏蔽结构的基本原理

额定电压U为1kV及以上时应有金属屏蔽层。金属屏蔽有铜丝屏蔽和铜带屏蔽两种结构。额定电压U为

00

2

21kV以上且导体标称截面为500mm以上电缆的金属屏蔽层应采用铜丝屏蔽结构。铜丝屏蔽由疏绕的软铜丝组成,

其表面应用反向铜丝或铜带扎紧,其厚度可据故障电流选取。除此之外,一般的金属屏蔽层为不小于0.10mm厚的

软铜带重叠绕包组成。对于三芯电缆,金属屏蔽层可统包或分相绕包。一般35kV级的电缆应分相包覆金属屏蔽层,

以实现“分相”屏蔽达到电场径向分布的目的,属径向型电场电缆,其电场分布图1。

分相屏蔽型电缆具有两个重要的优点:其一是,电缆线芯周围电场均匀,没有绝缘表面的切向应力,绝缘性能

较好,适用于电压等级较高的电缆,其二是单相故障不易转化不相间故障,便于维修。

金属屏蔽层主要为静电屏蔽。电缆敷设时通过金属屏蔽层接地使其电位为零。在单芯或分相屏蔽电缆绝缘内

的电场径向分布,消除了切向分量。可防止绝缘表面产生滑闪放电。金属屏蔽层亦可做为部分短路电流的回路。

因此,金属屏蔽层的作用可以归结为以下几点:

1、加强限制电场在绝缘层内的作用,使电场方向与绝缘半径方向一致(即径向),金属屏蔽带接地,电场终止

在金属带上,金属带外不再有电场;

2、在三相四线制中,它可以作为中心线承担不平衡电流。

3、防止沿轴向产生表面放电。

4、电站保护系统需要外导体屏蔽。绕包铜带屏蔽层具有优异的防雷特性。

5、正常情况下流过电容电流,短路时金属带可以作为短路故障电流回路。

电缆在没有良好接地的环境中,由于半导电具有一定的电阻系数(ρ≤10Ω·cm),在电缆轴向可能引起电

位分布不均匀,造成电缆沿面放电。图2的等值电路说明了电缆沿轴向表面电位μ的分布与变化。

如图2所示,当电缆沿轴向在A、B两点接地(或A、B两点间接地不良)时,其分布电容电流i0在两接

地点的中间形成高电位区,而越靠近两接地端的电压降越大,因而在两接地端附近将形成高场强,引起电晕,导致

轴向放电,这是实际运行是经常发生的现象。

二、金属屏蔽的基本要求

按国标GB/T12706.2.3-2002的要求,对金属屏蔽作了如下规定:

1、额定电压1.8/3kV有以上的电缆应有金属屏蔽层,金属屏蔽有铜丝屏蔽、金属丝编织屏蔽和铜带屏蔽等结

构型式。

2、铜丝屏蔽由疏绕的软铜线组成,其表面应有反向绕包的铜丝或铜带扎紧,相邻铜丝的平均间隙不大于4mm,

任何两根相邻铜丝间隙不大于8mm,铜丝屏蔽的标称截面可根据故障电流容量要求选用。

3、铜带屏蔽由一层重叠绕包的软铜带组成,也可用双层铜带间隙绕包,铜带间的平均搭盖率应不小于15%(标

称值),其最小搭盖率应不小于5%。铜带标称厚度应按下列要求选用:

单芯电缆:≥0.12mm;

三芯电缆:≥0.10mm。

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铜带的最小厚度应不小于标称值的90%。

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4、额定电压21kV且导体标称截面为500mm以上的电缆的金属屏蔽应采用铜丝屏蔽结构。

三、金属屏蔽带为何不能断裂

在屏蔽铜带一端接地的电缆中,当屏蔽铜带断裂时,非接地一端的铜带成为非接地状态,该铜带上将感应出高

电压,其值为:

式中:C1--电缆芯与非接地一端铜带间的电容;

C2--非接地一端铜带对地电容。

这个高电压若导致断裂部位发生放电,往往引起绝缘破坏。断裂部位放电的示意图如图3所示。

屏蔽铜带断裂的特征是:

(1)单芯电缆比三芯电缆的事故多。

(2)从投运到破坏的时间,从数周到数年不等。

(3)断裂部位的导体电阻增大到数千欧,不能保护非接地侧电缆的对地闪络。

(4)断裂部位放电时冒火、冒烟,严重时可能引起火灾。

四、铜带屏蔽工序生产要求及质量控制

★中压交联电缆在进行金属屏蔽时,应注意以下几点:

(1)、单芯交联电缆的屏蔽时,铜带厚度应按工艺要求选用0.12mm,同时应注意重叠率的要求。

(2)、三芯交联电缆

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