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电子级硫酸

电子级硫酸主要用于硅晶片的清洗、光刻、腐蚀，印刷电路板的腐蚀和电镀清洗。电子

级硫酸用于硅晶片的清洗已有30多年的历史。电子级硫酸是半导体工业常用的八大化学试

剂之一，消耗量居第三位。电子级硫酸与集成电路的发展密切相关。随着电子工业的发展，

电子级硫酸的研制和生产亦得到了快速发展，我国现已能够进行MOS级、BV—Ⅲ级电子级硫

酸的生产。电子级硫酸属高附加值产品。

正文目录

1产品市场分析

1.1产品用途

1.1.1电子级硫酸应用领域和用途

1.1.2电子级硫酸应用领域发展趋势

1.2国外市场预测分析

1.2.1国外市场供应现状及预测

1.2.2国外电子级硫酸生产技术情况

1.2.3国外市场需求现状及预测

1.2.4国外市场供需平衡分析

1.2.5电子级硫酸替代品概况

1.2.6国外主要电子级硫酸企业

1.3国内市场预测分析

1.3.1市场供应现状及预测

1.3.2市场需求现状及预测

1.3.3产品需求周期性分析

2产品的竞争力分析

2.1目标市场分析

2.1.1目标市场选择与结构分析

2.1.2我国电子化学品产业的发展分析

2.1.3主要用户分析

3电子级硫酸产业链分析

3.1电子级硫酸产业链分析

3.1.1电子级硫酸产业链模型介绍

3.1.2电子级硫酸产业链模型分析

3.2我国电子级硫酸产业发展“波特五力模型”分析

3.2.1“波特五力模型”介绍

3.2.2电子级硫酸市场环境“波特五力模型”分析

3.3电子级硫酸行业上游原材料供应状况对价格走势影响深度分析

3.3.1主要原材料分析

3.3.2主要原材料2006—2008年价格

3.3.32009—2012年主要原材料未来价格及供应情况预测

4行业项目投资建议

4.1产品技术应用注意事项

4.2项目投资注意事项

4.3产品生产开发注意事项

4.4产品销售注意事项

4.5项目投资可研报告基本框架

2产品的竞争力分析

2.1目标市场分析

2.1.1目标市场选择与结构分析

在半导体生产过程中，硅晶片常常会被不同的杂质污染，这些杂质会导致硅晶片产率下

降。为了获得高质量、高产率的集成电路芯片，必须始终保持硅晶片清洁，尤其是在高温工

序之前(如扩散、外延生长和化学气相沉淀)。这是因为钠、中扩散并迅速移动到负电荷区域，

金、银、铜等重金属杂质会在温度下降时溶入二氧化硅中，从而影响了器件的性能；硼、磷、

砷等杂质离子会影响扩散剂的扩散效果；尘埃颗粒会导致线路故障。因此，半导体生产几乎

每两道工序之间都要进行清洗。在90～125℃的温度范围内，硫酸是一种非常有效的清洗剂，

它几乎可以除去硅晶片上所有的无机残留物与金属颗粒；在硫酸中加入氧化剂(过氧化氢、

过硫酸按、硝酸、臭氧等)可除去硅晶片上的有机物。

另外，电子级硫酸还应用在半导体硅晶片表面进行湿法蚀刻除去固体物质，如单晶硅和

多晶硅的蚀刻通常采用硫酸等混酸处理，光刻胶在经显影和图形转移后，晶体上已完成屏蔽

作用的光刻胶要用去胶剂除去，去胶剂一般为过氧化氢—硫酸混合液。

印刷电路板生产中的腐蚀工艺是指从覆铜层压板上用腐蚀剂除去不需要的铜而留下铜

线路的工艺，常用的腐蚀剂有碱性铁、氯化铜、氯化铁、过氧化氢—硫酸等。过氧化氢—硫

酸腐蚀剂具有成本低、再生系统封闭、溶铜能力强、铜回收率高及可回收处理等优点，是较

理想的腐蚀剂。但该腐蚀剂操作不太安全，实际用量远远低于预期量，估计操作条件的改善

会增加使用量。

电子级硫酸还用于印刷电路板电镀中，除了镀铜工艺外，在镀镍、锡、金及其它贵金属

的电镀工艺中也有应用，主要是电镀前后的清洗。