铂族金属靶材在磁存储及半导体工业中的应用研究.ppt

铂族金属靶材在磁存储及半导体工业中的应用研究一、铂族金属靶材在磁存储工业中的应用二、Ni-Pt靶在半导体工业中的应用三、靶材所含铂族金属的循环利用四、下一步主要发展方向目录

一、铂族金属靶材在磁存储工业中的应用---磁记录硬盘基本概念硬盘内部构造硬盘由磁头、磁盘、主轴、控制电机、磁头控制器、数据转换器、接口、缓存等组成，其中磁头和磁盘是硬盘的核心部件。简而言之，硬盘工作原理就是利用特定的磁粒子的极性来记录数据，磁头在读取数据时，将磁粒子的不同极性转换为不同的电脉冲信号，在利用数据转换器将这些原始信号转变为计算机可以识别的数据，写操作则正好相反。一、铂族金属靶材在磁存储工业中的应用---磁记录硬盘基本概念磁存储记录方式最初为纵向记录方式。通常采用降低薄膜厚度及减小薄膜晶粒尺寸来提高存储密度。当磁性颗粒的粒度很小时，在常温下即发生超顺磁效应而失效。因此，人们发明了垂直记录技术，由于其记录磁矩的方向垂直于薄膜方向，于是在减小薄膜晶粒尺寸的过程中不需要牺牲薄膜厚度来提高记录密度，其理论极限存储密度可达到500-1000Gbits/in2，为水平磁记录极限存储密度的5-10倍。纵向记录方式和垂直磁记录方式

一、铂族金属靶材在磁存储工业中的应用---磁盘的构成及发展磁盘结构演变过程2005年3月日立公司展示了第一个采用垂直磁记录方式的硬盘，该存储方式迅速被业界广泛采用并在2008年完全取代水平磁记录方式。目前已经发展到第六代垂直磁记录方式，第六代磁盘由11-17层的多层纳米膜组成，多层膜的总厚度为100-200nm。其中用到的铂族金属及合金薄膜为CoCrPtB、CoCrPt-氧化物、Ru及Ru合金。一、铂族金属靶材在磁存储工业中的应用---磁盘的构成及发展用于制造磁盘的磁控溅射仪这些薄膜均是采用相应的铂族金属靶材并通过磁控溅射进行制备。

一、铂族金属靶材在磁存储工业中的应用---硬盘用量及使用厂家分布目前的硬盘驱动器行业中，有三个主要的硬盘驱动器（HDD）制造商：希捷，西部数据（WD）和东芝。根据最近的Trendfocus报告，硬盘驱动器的市场份额为44％（WD），43％（希捷）和13％（东芝）。这三家公司的驱动器总发货量2012年第四季度为1.36亿，其中希捷出货量于三季度类似，为0.58亿，其中3.5”硬盘和2.5”硬盘分别为0.355亿和0.23亿。WD总发货为0.6亿硬盘驱动器，同比第三季度下降3％，其中0.303亿3.5”硬盘及0.29亿2.5”硬盘。东芝的发货量为0.18亿，同比三季度略有下降（一百万），其中80％为2.5”硬盘，其余20%为3.5”硬盘。2012年第4季度三大硬盘厂家出货量及所占百分比一、铂族金属靶材在磁存储工业中的应用---硬盘用量及使用厂家分布全球计算机硬盘出货量及发展预测根据全球计算机硬盘出货量及发展预测，从2011年到2016年平均每年的复合年增长率为5％左右，预计到2016年全球硬盘驱动器总出货量将达到5.7亿左右。相应地，溅射靶材需求也将逐年增加。

一、铂族金属靶材在磁存储工业中的应用---靶材用量统计及预测溅射靶材是磁控溅射过程中的最为关键部分，溅射薄膜的许多特性都依赖于靶材的属性。根据统计，2012年希捷公司每季度用量：（1）1400片Ru靶（含纯Ru及合金）；（2）1800Pt合金靶材（含CoCrPtB及CoCrPt+氧化物）（3）12800非贵金属靶材(约占总靶材数量～80%)希捷季度总靶材需求为：～16000片由此，我们可以根据希捷的磁盘市场占有率（43%）对2012年全球磁记录全球靶材用量进行估算：全球磁存储行业的靶材年需求为～180,000片/年；其中Ru为~16000片/年;Pt为21000片/年。希捷公司2012年含铂族金属磁存储靶材用量一、铂族金属靶材在磁存储工业中的应用---靶材用量统计及预测溅射靶材的全球市场在2011年达到33亿美元。在2011年总共有116万片靶材被用于溅射。电子信息产业（包括微电子、数据存储介质及先进的显示屏）是全球溅射靶材最大的消耗者，在2011年估计占所有靶材销售额的54％。从2011年至2016年间全球生产的溅射薄膜的复合年均增长率为8.6％。溅射靶材市场将在同一时期内以12.3％的复合年增长率增加，并在2016年达到约59亿美元。溅射靶材的全球市场预计将在2016年达到约170万片，相当于8.4％的