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摘要
熔石英作为一种可靠性极强的透明材料被广泛应用于大型激光光学系统中。但是
元件自身的抗损伤能力和现代元件制备工艺的限制共同阻滞着激光系统向着更高能
量发展，这也成为需要攻克的重要方向之一。非晶SiO作为现代光学系统中最常用的
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元件，其在高能量激光系统中会产生光学损伤，而这种光学损伤是降低光学系统的光
束质量和负载能力最重要的因素。由于制备工艺的限制，熔石英元件内部产生了气泡
杂质缺陷
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