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摘要
渐变折射率薄膜克服了传统薄膜因膜层之间界面存在造成的跃变特性和不稳定
性，不仅提高薄膜的损伤阈值，而且降低性能退化，在激光膜的制备中有更好的应用
前景。此外因其折射率连续变化的特性可以取代薄膜设计中缺乏的材料，提高膜系设
计的灵活性，并且有较好的附着力和较小的应力。
采用氢化硅作为渐变折射率薄膜的研究材料，该材料受工艺参数影响，容易制备
出折射率周期变化的材料。其具有红外吸收系数小、折射率高、透明区宽等优点，广
泛应用于近红外滤光片的制备，也常应用于薄膜太阳电池，显示器和传感器。
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