半导体制造过程控制系统（PCS）系列：光刻控制系统_18.光刻过程中的数据管理和分析.docx

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18.光刻过程中的数据管理和分析

在半导体制造过程中，光刻是其中一个至关重要的步骤。光刻过程中的数据管理和分析不仅能够确保制造过程的稳定性和可靠性，还能通过实时监控和优化提高生产效率和产品质量。本节将详细介绍光刻过程中数据管理的原理和方法，以及如何利用数据分析来优化光刻过程。

18.1数据采集和存储

数据采集是光刻过程数据管理的基础。通过各种传感器和测量设备，可以实时收集光刻过程中的关键参数，如曝光时间、曝光强度、焦距、温度、湿度等。这些数据需要被高效、准确地存储，以便后续分析和使用。

18.1.1数据采集系统

数据采集系统通常包括以下组件：

传感