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半导体制造过程控制系统（PCS）系列：光刻控制系统_20.光刻控制系统在实际生产中的应用案例.docx

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    20.光刻控制系统在实际生产中的应用案例

    20.1光刻控制系统在晶圆对准中的应用

    光刻过程中，晶圆对准是确保图案精确传输到晶圆表面的关键步骤。光刻控制系统通过高精度的对准机制和算法，确保每次曝光时晶圆的位置都是完全一致的。这一步骤通常分为粗对准和精对准两个阶段。

    20.1.1粗对准

    粗对准的主要目的是将晶圆大致对准到预定位置，以便后续的精对准步骤能够更快更准确地进行。这通常通过机械机构和简单的光学传感器实现。例如，晶圆传输机械手会将晶圆放置在对准台上，然后通过红外传感器或激光传感器进行初步的位置检测。

    #粗对准示例代码

    importnump

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