半导体制造过程控制系统（PCS）系列：离子注入控制系统_（2）.离子注入技术的基础知识.docx

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离子注入技术的基础知识

1.离子注入的基本概念

1.1离子注入的定义

离子注入是一种在半导体材料中引入杂质原子的方法，通过将高能离子束注入材料表面，可以在材料内部形成所需的掺杂层。与传统的扩散工艺相比，离子注入具有剂量精确控制、掺杂深度精确控制、均匀性好等优点，因此在现代半导体制造中得到了广泛应用。

1.2离子注入的过程

离子注入过程主要包括以下几个步骤：

离子源生成：通过电子轰击或等离子体放电等方式，将气体分子或固体材料电离生成离子。

离子加速：将生成的离子通过电场加速到所需能量。

离子束形成：通过磁场或电场将加速后的离子束聚焦和准直。

离子注入