半导体制造环境控制系统(ECS)系列:气体流量控制系统_(4).气体流量控制系统的组成与结构.docx

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气体流量控制系统的组成与结构

引言

在半导体制造过程中,气体流量控制系统的精确性和稳定性对于确保生产质量至关重要。气体流量控制系统(GasFlowControlSystem,GFCS)是半导体制造环境控制系统(ECS)的重要组成部分之一,主要用于控制和监测气体的流量,确保其在规定的范围内稳定供应。本节将详细介绍气体流量控制系统的组成与结构,帮助读者理解其工作原理和关键组件。

气体流量控制系统的组成

1.气体源

气体源是气体流量控制系统的起点,提供所需的气体。常见的气体源包括:

高压气瓶:用于存储高纯度气体,如高纯氮气、氩气等。

气体发生器:用于

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