- 1、本文档共32页,其中可免费阅读10页,需付费49金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
PAGE1
PAGE1
洁净度控制系统的概述
在半导体制造过程中,洁净度控制是确保产品质量和生产效率的关键环节。洁净度控制系统(ECS,EnvironmentalControlSystem)的主要任务是监测和控制制造环境中的颗粒物、有害气体和微生物,以保持高度的洁净度。这些系统通常包括空气过滤、压力控制、温度和湿度控制等模块。本节将详细介绍洁净度控制系统的各个组成部分及其工作原理。
空气过滤系统
空气过滤系统是洁净度控制的核心部分,负责去除空气中的颗粒物。常见的空气过滤器包括初效过滤器、中效过滤器、高效过滤器(HEPA)和超高效过滤器(ULPA)。这些过滤器按照过滤效率的
您可能关注的文档
- 半导体制造过程控制系统(PCS)系列:离子注入控制系统_(14).案例研究:离子注入控制系统的实际应用.docx
- 半导体制造过程控制系统(PCS)系列:离子注入控制系统all.docx
- 半导体制造过程控制系统(PCS)系列:蚀刻控制系统_1.蚀刻控制系统的概述.docx
- 半导体制造过程控制系统(PCS)系列:蚀刻控制系统_2.蚀刻工艺基础.docx
- 半导体制造过程控制系统(PCS)系列:蚀刻控制系统_3.蚀刻过程中的物理与化学机制.docx
- 半导体制造过程控制系统(PCS)系列:蚀刻控制系统_4.等离子体蚀刻技术.docx
- 半导体制造过程控制系统(PCS)系列:蚀刻控制系统_5.湿法蚀刻技术.docx
- 半导体制造过程控制系统(PCS)系列:蚀刻控制系统_6.蚀刻速率与选择性优化.docx
- 半导体制造过程控制系统(PCS)系列:蚀刻控制系统_7.蚀刻过程中的温度控制.docx
- 半导体制造过程控制系统(PCS)系列:蚀刻控制系统_8.蚀刻过程中的压力控制.docx
文档评论(0)