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摘要
红外截止滤光膜目前在军事、医学及消费电子等领域中有着广泛应用，随着生
活水平日益提高，智能手机、平板电脑以及摄影器材等电子产品飞速进入人们的视
野并成为不可替代的工具。光学屏指纹识别系统作为消费电子产品的重要组件，可
见光高透射近红外高截止滤光片发挥了重要作用。本文从靶材磁场均匀性、公-自转
系统的转速比与基板夹具遮挡角度三个方面对薄膜厚度均匀性的影响展开研究，针
对镀膜过程中热应力使基板面型变化的问题进行仿真分析，使用真空原位退火法对
热应力进行有效释放，维持基板面型，为滤光膜的制备提供了
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