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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利说明书
(10)申请公布号CN111354670A
(43)申请公布日2020.06.30
(21)申请号CN201911181092.7
(22)申请日2019.11.27
(71)申请人夏泰鑫半导体(青岛)有限公司
地址266000山东省青岛市黄岛区太白山路172号青岛中德生态园双创中心219室
(72)发明人李其衡
(74)专利代理机构深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司
代理人彭辉剑
(51)Int.CI
权利要求说明书说明书幅图
(54)发明名称
对准方法、对准系统及计算机可读
存储介质
(57)摘要
一种对准方法,包括:获取包括多
组不同对准参数间对应关系的对应关系
表,对准参数包括对准标记类型、激光类
型及对准标记位置组;随机调用对应关系
表中的一组对应关系形成一对准方案;及
根据对准方案执行对准操作,其中如果对
准操作的执行时间超过预设时间,则放弃
当前执行的对准方案,再调用对应关系表
中另一组对应关系形成新的对准方案并根
据新的对准方案执行对准操作。本发明提
高了对准操作的自动化程度,降低了重工
的概率,减小了人力成本。本发明还提供
一种对准系统及计算机可读存储介质。
法律状态
法律状态公告日法律状态信息法律状态
2023-05-26授权发明专利权授予
权利要求说明书
1.一种对准方法,用于将晶圆与掩模对准,所述晶圆被划分成多个阵列分布的曝光单
元,每个所述曝光单元内形成有多种类型的对准标记,其特征在于,所述对准方法包括:
获取包括多组不同对准参数间对应关系的对应关系表,所述对准参数包括对准标记
类型、激光类型及对准标记位置组;
随机调用所述对应关系表中的一组对应关系形成一对准方案;及
根据所述对准方案执行对准操作,
其中如果所述对准操作的执行时间超过预设时间,则放弃当前执行的所述对准方案,
再调用所述对应关系表中另一组对应关系形成新的对准方案并根据所述新的对准方
案执行对准操作。
2.如权利要求1所述的对准方法,其特征在于,所述对准操作包括粗对准与精对准,所
述粗对准在所述精对准之前,所述预设时间为所述粗对准的第一预设时间与所述精
对准的第二预设时间之和。
3.如权利要求1所述的对准方法,其特征在于,所述对准操作包括粗对准与精对准,所
述粗对准在所述精对准之前,所述预设时间包括所述粗对准的第一预设时间与所述
精对准的第二预设时间,如果执行所述粗对准的时间超过所述第一预设时间,则放弃
当前执行的所述对准方案,如果执行所述精对准的时间超过所述第二预设时间,则放
弃当前执行的所述对准方案。
4.如权利要求2或3所述的对准方法,其特征在于,根据所述对准方案执行对准操作
包括:
提供一晶圆,所述晶圆上形成有调用的所述对应关系中的对准标记类型,并将所述晶
圆定位至晶圆工作台上;
提供一掩模,所述掩模上形成有调用的所述对应关系中的对准标记类型,并将所述掩
模定位至掩模工作台上;
向所述晶圆上的调用的所述对准关系中的所述对准标记位置组发射调用的所述对准
关系中的激光类型的激光束;
获取所述激光束透过所述掩模的光信号,及
根据获取的所述光信号调整所述晶圆工作台相对于所述掩模工作台的位置。
5.如权利要求1所述的对准方法,其特征在于,所述对准标记位置组包括至少两个不
相邻的所述曝光单元在所述晶圆上的位置。
6.如权利要求4所述的对准方法,其特征在于,根据所述对准方案执行对准操作过程
中,如果所述对准操作执行时间超过预设时间的次数达到预设值,则将所述晶圆退出
所述晶圆工作台。
7.一种对准系统,用于将晶圆与掩模对准,所述晶圆被划分成多个阵列的曝光单元,每
个所述曝光单元内形成有多种类型的对准标记,其特征在于,所述对准系统包括:
获取模块,用于获取对应关系
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