《颗粒硅总金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》.pdf

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颗粒硅总金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法

1范围

本文件描述了电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）测定流化床法颗粒硅中总金属杂质含量的方法。

本文件适用于流化床法颗粒硅总金属杂质，如铁、铬、镍、铜、钠、镁、铝、钾、钙、锌、钛、钼、

钨、钴含量的测定，各元素检测范围为0.05ng/g~50ng/g。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，

仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其必威体育精装版版本（包括所有的修改单）适用于本

文件。

GB/T11446.1-2013电子级水

GB/T14264半导体材料术语

GB/T25915.1-2021洁净室及相关受控环境第1部分：按粒子浓度划分空气洁净度等级。

3术语和定义

下列术语和定义适用于本文件。

3.1

总金属totalmetal

称取一定质量未经表面清洗处理的试样加酸消解、蒸干、定容、检测得到的表面和基体金属含量的

总和。

4原理

试料用硝酸和氢氟酸溶解，硅以四氟化硅（SiF）的形式挥发，加热蒸干后，残渣使用硝酸溶解，

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利用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）在最优条件下测定溶液中待测金属元素的含量。

5干扰因素

5.1试样表面污染会影响检测结果，需要保证取样工具和取样袋的洁净。

5.2所用试剂的纯度，设备的清洁度，房间的洁净度，样品处理过程引入的污染，要严格控制。

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5.3仪器测试过程中存在质谱和试样基体效应的干扰，仪器应选择对应的抗干扰模式，保证分析结果

的准确性。

6试剂或材料

6.1超纯水：满足GB/T11446.1-2013中描述的EW-I型水或其他品质相当的超纯水。

6.2硝酸：质量分数为65%～68%，每种金属杂质含量均低于10ng/L。

6.3氢氟酸：质量分数为30%～50%，每种金属杂质含量均低于10ng/L。

6.4单元素标准溶液：采用可以量值溯源的有证标准物质，铁、铬、镍、铜、钠、镁、铝、钾、钙、

锌、钛、钼、钨、钴浓度均为10μg/mL。

6.5混合标准熔液：移取单元素标准溶液（6.4）1mL用硝酸溶液（6.6）定容至100mL，配制浓度为

100ng/mL（铁、铬、镍、铜、钠、镁、铝、钾、钙、锌、钛、钼、钨、钴）的混合标准溶液。

6.6硝酸（1+99)：硝酸和超纯水的体积比为1：99。

6.7消解液：硝酸、氢氟酸的体积比为1:2。

7仪器设备

7.1电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）：具备良好的抗干扰模式，分辨率不高于1amu。

7.2器皿：所用器皿由聚四氟乙烯（PTFE）或四氟乙烯-全氟烷氧基乙烯基醚共聚物（PFA）等耐氢氟

酸腐蚀，可清洗且对分析结果无影响的材料制成。

7.3分析天平：感量为0.0001g。

7.4电加热板：表面材质为耐酸腐蚀。

7.5移液枪：量程为10μL～100μL、100μL～1000μL和1000μL～5000μL。

7.6容量瓶：体积为100mL。

8测试环境

8.1洁净度：制样和测试区域洁净度应不低于GB/T25915.1-2021中定义的ISO5级的要求。

8.2温度：23℃±5℃。

8.3相对湿度：30%RH~65%RH。

9试验步骤

9.1试料

称取0.5g～1.0g的试样，精确至0.0001g。

9.2平行试验

独立地进行二次测定，取其平均值。

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9.3空