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题目：晶片刷洗的刷压量化设计及研究
中文摘要
蓝宝石衬底晶片的表面洁净度的影响因素有人为因素、环境因素和二次污染。本课题钻研的是蓝宝石衬底晶片刷洗时的刷压问题，意义在于增强晶片抛光面的洁净度，减少晶片抛光面颗粒值。蓝宝石单晶基片是LED和LD工业的首选基片，晶片表面的颗粒影响到了后续PSS的上胶质量，晶片表面的大颗粒会造成晶片表面层暗缺，导致良率下降和出货后加工不稳定。提高良率、增加生产作业质量的稳定性。本课题研究的清洗机台的刷压调整标准存在巨大的人为误差与主观判断，故研究思路为清洗机作业时，使用传感器测量刷头与晶片表面接触的距离，计算出测量得到的距离与刷洗后晶片表面颗粒值的线性关系，将刷压
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