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《Al掺杂ZnO薄膜制备工艺研究》
一、引言
近年来,Al掺杂ZnO(AZO)薄膜因其优异的电学、光学和磁学性能在光电子器件、透明导电薄膜、太阳能电池等领域得到了广泛的应用。本文旨在研究Al掺杂ZnO薄膜的制备工艺,通过优化制备参数,提高薄膜的性能。
二、文献综述
Al掺杂ZnO薄膜的制备方法主要包括磁控溅射法、溶胶-凝胶法、化学气相沉积法等。其中,磁控溅射法因其制备工艺简单、成膜质量好、掺杂均匀等优点被广泛应用。然而,在制备过程中,掺杂浓度、基底温度、溅射功率等参数对薄膜性能的影响较大,需要进行深入研究。
三、实验方法
1.材料与设备
实验所需材料包括ZnO靶材、Al靶材、高纯Ar气等。实
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