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薄膜物理与技术（孙喜莲版）
一：填空题
1.为了研究真空和实际使用方便，根据各压强范围内不同的物理特点，把真空
划分为，，，四个区域。
2.在真空条件下，分子的平均自由程可以与容器尺寸相比拟。
3.列举三种气体传输泵，和。
4.气体捕获泵是通过各种材料特有的将被抽气体吸除，以
达到所需真空。
5.真空计种类很多，通常按测量原理可分为和。
6.气体的吸附现象可分为和。
7.化学气相反应沉积的反应器的设计类型可分为，，
和。
8电镀方法只适用于在上沉积金属和合金，薄膜材料在电解液中
是以的形式存在。制备有序单分子膜的方法
是。
9不加任何电场，直接通过化学反应而实现薄膜沉积的方法叫。
10物理气相沉积过程的三个阶段：，
和。
11.在相同条件下，小平面蒸发源的中心膜厚为点蒸发源中心膜厚的
倍。
12.在反应蒸发中，蒸汽原子与活性气体之间的反应主要发生在。
13.溅射过程中所选择的工作区域是，基板常处于
区，阴极和基板之间的距离至少应是宽度的两倍。
14.在气体成分和电极材料一定条件下，起辉电压V只与和
的乘积有关。
15.磁控溅射具有两大特点是和。
16.直流二极溅射依赖离子轰击阴极所发射的次级电子来维
持。
17.射频电极在靶材上的效应使得气体离子对其自发的轰击和溅
射。
18.在离子镀成膜过程中，同时存在和作用，只有当前者
超过后者时，才能发生薄膜的沉积。
19薄膜的形成过程一般分为：、、。
20原子聚集理论中最小稳定核的结合能是以为最小单位不连续变
化的。
21薄膜成核生长阶段的高聚集来源
于：、、。这些结论假设凝聚系数为常
数，基片具有原子级别的平滑度。
22薄膜生长的三种模式
有、、。
23在薄膜中存在的四种典型的缺陷为：
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