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第五章非平衡载流子
•5.1非平衡载流子的注入与复合
•5.2非平衡载流子的寿命
•5.3准费米能级
•5.4复合理论
•5.5陷阱效应
•5.6载流子的扩散运动
•5.7载流子的漂移运动,爱因斯坦关系式
•5.8连续性方程式
•5.9硅的少数载流子寿命与扩散长度
本章重点
Ø非平衡载流子的产生、复合、寿命
Ø准费米能级
Ø复合理论
Ø非平衡载流子的运动规律
Ø扩散方程
Ø爱因斯坦关系式
Ø连续性方程
2
5.1非平衡载流子的注入与复合
•半导体的热平衡态与非平衡态
一定温度下,热平衡状态下半导体的载
流子浓度是一定的。外场的作用,只是改变
载流子在一个能带中能级之间的分布,而没
有引起电子在能带之间的跃迁,在导带和价
带中的载流子数目都没有改变。这种处于热
平衡状态下的载流子浓度,称为平衡载流子
浓度。
1、热平衡状态特点:
•半导体受均匀不变的温度,不受外界作用
•处于热平衡态的半导体,在一定温度下,载
流子浓度是恒定的。用n0和p0分别表示平衡
电子浓度和平衡空穴浓度。
在非简并情况下,它们的乘积满足下式
Eg2
n0p0NcNvexp()ni
k0T
•半导体中载流子的产生和复合过程保持动
态平衡
载流子的产生率=载流子的复合率
2、非平衡载流子的产生:
对半导体施加外部作用使其内部产生非平衡载流
子的方法,称为非平衡载流子的注入。
产生非平衡载流子的方法有:
Ø光注入:用光照使半导体内部产生非平衡载流子
的方法,称为非平衡载流子的光注入。
Ø电注入
Ø高能粒子辐照
Ø其它能量传递方式
5
•对半导体施加外界作用,如:光照、注入等,
使半导体处于与热平衡态相偏离的状态,称为
非平衡态。此时比平衡态多出来的载流子,称
为过剩载流子或非平衡载流子。
•大多数情况下,非平衡载流子都是在半导体的
局部区域产生的。它们除了在电场作用下的漂
移运动以外,还要作扩散运动。
•★非平衡态的特点:产生率不等于复合率
4、★光注入:非平衡载流子np
Ec
Eg
Ev
nn0npp0p7
对N型半导体,电子为非平衡多数载流子,空
穴称为非平衡少数载流子。
对P型半导体,空穴称为非平衡多数载流子,
而电子称为非平衡少数载流子。
3、大注入和小注入:
小注入:
15-3
例如,在室温下n0=1.5×10cm的N型硅中,空
5-3
穴浓度p0=1.5×10cm。如果引入非平衡载流子
10-3
Δn=Δp=10cm,则Δnn0。但Δpp0
小注入情况下,非平衡少子浓度可以比平
衡少子浓度大得多,其作用显著,而非平衡多
子的作用可忽略。通常说的非平衡载流子都是
指非平衡少子。
9
4、非平衡载流子的注入和检验:
•注入的非平衡载流子可以引起电导调制效应,
使半导体的电导率由平衡值σ0增加为σ0+Δσ,
附加电导率Δσ可表示为
nqnpqp
(n0n)qn(p0p)qp
(n0qnp0qp)(nqnpqp)
0
nqnpqp
光注入Δp=Δn
pq(np)
通过附加电导率的测量可以直接检验非平
衡载流子的存在。
小注入时00
电阻率变化:
0
2
1/1/0
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