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一、填充题
1.两种不同半导体接触后,费米能级较高的半导体界面一侧带正
电达到热平衡后两者的费米能级相等。
k
2.半导体硅的价带极大值位于空间第一布里渊区的中央,其导带极小值位于
【100】方向上距布里渊区边界约0.85倍处,因此属于间接带隙
半导体。
3.晶体中缺陷一般可分为三类:点缺陷,如空位间隙原子;
线缺陷,如位错;面缺陷,如层错和晶粒间界。
4.间隙原子和空位成对出现的点缺陷称为弗仓克耳缺
陷;形成原子空位而无间隙原子的点缺陷称为
肖特基缺陷。
5.浅能级杂质可显著改变载流子浓度;深能级
杂质可显著改变非平衡载流子的寿命,是有效的复合中心。
6.硅在砷化镓中既能取代镓而表现为施主能级,又能取代
砷而表现为受主能级,这种性质称为杂质的双性行
为。
7.对于ZnO半导体,在真空中进行脱氧处理,可产生氧空位,
从而可获得n型ZnO半导体材料。
8.在一定温度下,与费米能级持平的量子态上的电子占据概率为
1/2,高于费米能级2kT能级处的占据概率为
1/1+exp(2)。
9.本征半导体的电阻率随温度增加而单调下降,杂质半导
体的电阻率随温度增加,先下降然后上升至最高点,
再单调下降。
10.n型半导体的费米能级在极低温(0K)时位于导带底和施主能级之间中央
处,随温度升高,费米能级先上升至一极值,然后下降至本征费米能
级。
11.硅的导带极小值位于k空间布里渊区的【100】
方向。
12.受主杂质的能级一般位于价带顶附
近。
13.有效质量的意义在于它概括了半导体内部势场
的作用。
14.间隙原子和空位成对出现的点缺陷称为弗仓克耳缺
陷。
15.除了掺杂,引入缺陷也可改变半导体的
导电类型。
16.回旋共振是测量半导体内载流子有效质量的重要
技术手段。
17.PN结电容可分为势垒电容
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