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场效应晶体管的p型和n型结构

P型和N型场效应晶体管的结构和工作原理

场效应晶体管(FieldEffectTransistor,简称FET)是一种

利用电场效应来控制沟道电阻和电流的半导体器件,属于电压控制

型器件,具有输入电阻高、噪声低、功耗低、动态范围大、易于集

成等优点。场效应晶体管根据沟道的载流子类型和栅极的结构,可

以分为P型和N型两种,本文将介绍它们的结构和工作原理,主要

包括以下几个方面:

-P型和N型场效应晶体管的结构特点;

-P型和N型场效应晶体管的工作模式和状态;

-P型和N型场效应晶体管的输出特性和转移特性;

-P型和N型场效应晶体管的应用领域和优缺点。

一、P型和N型场效应晶体管的结构特点

P型和N型场效应晶体管的结构特点主要取决于它们的沟道和

栅极的材料和形式。沟道是连接源极和漏极的半导体区域,栅极是

控制沟道电阻和电流的电极,通常与沟道之间有一层绝缘层隔开。

根据沟道的载流子类型,可以将场效应晶体管分为P型和N型两种,

如图1所示。

P型场效应晶体管的沟道是P型半导体,载流子是空穴,源极

和漏极是N型半导体,形成两个PN结。栅极可以是金属或多晶硅,

与沟道之间有一层氧化硅绝缘层。当栅极加正电压时,沟道中的空

穴被排斥,沟道变窄,电流减小;当栅极加负电压时,沟道中的空

穴被吸引,沟道变宽,电流增大。因此,P型场效应晶体管是正向

控制的。

N型场效应晶体管的沟道是N型半导体,载流子是电子,源极

和漏极是P型半导体,形成两个PN结。栅极可以是金属或多晶硅,

与沟道之间有一层氧化硅绝缘层。当栅极加正电压时,沟道中的电

子被吸引,沟道变宽,电流增大;当栅极加负电压时,沟道中的电

子被排斥,沟道变窄,电流减小。因此,N型场效应晶体管是反向

控制的。

二、P型和N型场效应晶体管的工作模式和状态

P型和N型场效应晶体管的工作模式和状态主要取决于它们的

栅极电压和漏极电压的大小和方向。根据栅极电压是否达到开启沟

道的阈值电压,可以将场效应晶体管分为增强型和耗尽型两种,如

图2所示。

增强型场效应晶体管的沟道是在栅极加有一定电压后才形成的,

因此,当栅极电压为零时,沟道不存在,漏极电流为零,管子处于

截止状态。当栅极电压达到一定的阈值电压时,沟道开始形成,漏

极电流开始流动,管子处于开启状态。当栅极电压继续增加时,沟

道变宽,漏极电流增大,管子处于饱和状态。增强型场效应晶体管

的特点是需要外加电压来增强沟道的导电性,因此也称为正电压控

制型。

耗尽型场效应晶体管的沟道是在栅极加有一定电压后才消失的,

因此,当栅极电压为零时,沟道存在,漏极电流最大,管子处于饱

和状态。当栅极电压达到一定的阈值电压时,沟道开始消失,漏极

电流逐渐减小,管子处于截止状态。当栅极电压继续增加时,沟道

完全消失,漏极电流为零,管子处于开启状态。耗尽型场效应晶体

管的特点是需要外加电压来耗尽沟道的导电性,因此也称为负电压

控制型。

三、P型和N型场效应晶体管的输出特性和转移特性

P型和N型场效应晶体管的输出特性和转移特性主要取决于它

们的电流-电压关系和转移特性曲线。对于P型场效应晶体管来说,

输出特性曲线是漏极电流与漏极电压的关系曲线,转移特性曲线是

漏极电流与栅极电压的关系曲线。对于N型场效应晶体管来说,输

出特性曲线是漏极电流与漏极电压的关系曲线,转移特性曲线是漏

极电流与栅极电压的关系曲线。根据这些特性曲线,可以获得场效

应晶体管的工作点和工作范围,进而进行电路设计和性能分析。

四、P型和N型场效应晶体管的应用领域和优缺点

P型和N型场效应晶体管由于其优良的性能特点,在电子器件

和电路中有广泛的应用。P型场效应晶体管通常用于放大和开关电

路中,具有高输入电阻和低输出电阻的特点,适用于低功耗和高频

率的应用。N型场效应晶体管通常用于放大和开关电路中,具有低

输入电阻和高输出电阻的特点,适用于高功耗和低频率的应用。然

而,P型和N型场效应晶体管也存在一些缺点,如温度敏感性、漏

电流等,需要在实际应用中进行合理的设计和补偿。

总之,P型和N型场效应晶体管是一种重要的半导体器件,具

有广泛的应用前景。了解它们的结构和工作原理

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