基板清洗装置和使用其清洗基板的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(10)申请公布号CN104588351A

(43)申请公布日2015.05.06

(21)申请号CN201410719858.3

(22)申请日2014.12.02

(71)申请人深圳市华星光电技术有限公司

地址518132广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

(72)发明人邓海峰

(74)专利代理机构北京聿宏知识产权代理有限公司

代理人吴大建

(51)Int.CI

B08B3/02

B08B13/00

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

基板清洗装置和使用其清洗基板的

方法

(57)摘要

本发明涉及基板清洗装置和使用其

清洗基板的方法。该基板清洗装置包括护

罩，其包括顶板和从顶板向下延伸的侧

壁，设置在护罩内的喷水器。护罩和喷水

器的宽度覆盖了基板的宽度，并且侧壁延

伸到基板表面附近。在使用根据本发明的

基板清洗装置清洗基板时，外界环境中的

水滴不会滴落到基板上，从而避免了基板

出现蚀刻程度不同的状况，并且由此避免

了液晶面板出现不可修复的斑点的问题。

法律状态

法律状态公告日法律状态信息法律状态

权利要求说明书

1.一种基板清洗装置,包括:

护罩,所述护罩包括顶板和从所述顶板向下延伸的侧壁,

设置在所述护罩内的喷水器,

其中,所述护罩和所述喷水器的宽度覆盖了所述基板的宽度,并且所述侧壁延伸到所

述基板表面附近。

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述喷水器包括方向能调整的水喷嘴。

3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述水喷嘴斜朝向前方。

4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,在所述护罩内,在所述喷水器的后方还设

置有用于在所述基板表面上形成定向气流的吹风器。

5.根据权利要求4所述的装置,其特征在于,所述吹风器包括气喷嘴,所述气喷嘴所处

的直线与所述基板的交点相邻地处于水喷嘴所处的直线与基板的交点的后方。

6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述吹风器的高度低于所述喷水器的高

度。

7.根据权利要求1到6中任一项所述的装置,其特征在于,还包括抽气组件,在所述护

罩的顶板上设置有排气口。

8.一种使用根据权利要求1到7中任一项所述的基板清洗装置来清洗基板的方法,包

括:

将基板沿从后到前的方向穿过所述护罩,

将所述喷水器的水喷嘴调整为斜朝向前方,以向基板上喷水而实现清洗。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述装置内还包括抽气组件,以将所述护

罩内水汽抽走。

10.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于,在所述护罩内,在所述喷水器的后方

还设置有吹风器,所述吹风器在所述基板表面上形成向前的定向气流以向前吹动所

述基板上的水。

说明书

p技术领域

本发明涉及液晶显示器制造领域,特别涉及一种基板清洗装置。本发明还涉及使用

这种基板清洗装置来清洗基板的方法。

背景技术

在液晶面板快速发展的今天,产品的成品率提升日显重要。产品成品率决定产品的

市场竞争力和工厂的生命力。

液晶面板的成品率受很多因素的影响,例如在场效应晶体管(即,TFT)的制程工艺中产

生的斑点(即,Mura)会对面板产生重大影响,从而极大的影响液晶面板的成品率。

TFT制程工艺中的湿制程通常包括强酸或强碱(即,药剂)制程和之后的水洗制程,其

中强酸或强碱制程用以进行蚀刻,水洗制程用以冲洗掉这些蚀刻药剂。水洗制程通

常通过以下方式来实现:使用水刀在基板上均匀地涂布一层水膜以快速洗掉基板上

残留的药液。但是,由于外界环境中的水滴会在基板接触到水刀之前滴落到基板上,

并最终导致所制备的液晶面板出现不可修复的斑点,从而严重影响液晶面板的成品

率。

发明内容

针对上述问题,本发明提出了一种基板清洗