广东期末真题分类汇编九年级上册阅读文本分类试卷（含答案解析）.docxVIP

九年级上册阅读文本分类试卷

一、现代文阅读

（2024九上·深圳期末）阅读下面的材料，完成各题。

材料一：当前，我国已经成为具有重要影响力的科技大国，科技创新对经济社会发展的支撑和引领作用日益增强。同时，必须认识到，与建设世界科技强国的目标相比，我国在关键领域核心技术，尤其是芯片领域还面临一些亟需破解的瓶颈。

“从整个芯片产业来看，确实面临着严峻的挑战。电子科技大学集成电路研究中心主任张波说，部分西方国家对我国芯产业的打，使我们的先进工艺产品发展受阻。但这种“卡脖子”反而推动了功率半导体领城相关厂商加大对国产芯片研发的支持力度，从而使国产功率半导体能够在试错、迭代中不断发展。

当前我国芯片产业”危”机”并存。从全球来讲，我国的芯片应用市场规模最大，增速也最快。从总的市场占有规模来看，尽管国外厂商占了全球大部分的市场份额，但是近几年国内企业有起直运的态势、在多个设备和材料锁城也实现了突破。

若以半导体产业的光电子领域为突破口，以换道超车的思维，加上新型举国体制的制度，实现领跑也不是不可能。

(刊于(人民日报》2023.4.26，有删改)

材料二：

(刊载于《广东科技报》2023.4.14，有删改)

材料三：数字时代”，芯片的重要性不言而喻。芯片在投入使用前，要经历上百道工序的纳米级改造。其中、光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，其重要设备——光刻机更被誉为半导体工业皇冠上的明珠。

①

半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上。这一过程通过光刻来实现，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。整个过程涉及多种核心设备，其中价值量最大且技术壁最高的部分就是光刻机。

②

光刻不难，难的是更精确地光刻。极紫外光波长为10~14纳米，用这类光源作为光刻技术，是生产5nm芯片必要的设备。这种高端光刻机EUV光刻机(极深紫外线光刻机)，是精密仪器中的翘楚。极深紫外线并非地球上天然存在的光线，需要特定的技术和设备才能够制造出来。使用这种特殊的光源，不但整个光刻间都要处于真空状态，以尽量减少光能的损耗，其他细节也要求极为苛刻，因而EUV光刻机制造难度极大。

光刻机对工作环境相当挑剔

光要纯：光刻房间要求全部为纯净的黄光，因为短波长的光会造成光刻胶变性。

要无尘：每立方米的空气中不能有超过10个颗粒，并且颗粒大小小于0.5微米，每小时要净化30万立方米的空气。

要安稳：厂房对地基要求也很严格，不能有任何微小的振动。

耗电高：一台EUV工作24小时，耗电量达到3万度，相当于可支撑一辆电动自行车绕地球骑行六。

(刊载于《广东科技报》2023.4.14，有删改)

材料四：中科院近期宣布：已经欢克3nm光子芯片技术，2023年开建第一条生产线。届时，中国将会成为世界上第一个大规模量产光子芯片的国家。

实际上，中国准备建设光子芯片生产线已经不是新闻。中科芯公司在2022年就已经着手筹建，计划拟架设一条光子芯片的生产线，现在设计方案和建造事宜等在积极推进中。

此次中科院光子芯片技术的重大突破主要是在晶体管技术方面。这使得我们生产的光子芯片更加先进，达到了3nm的层次。

有人说，这是否说明中国芯片已经达到了世界先进水平呢其实不然。光子芯片就目前来看，依旧难以取代电子芯片。那么为何我们还要孜孜不倦地在光子芯片上开发呢原因很简单：能耗低，成本低，不用依赖极紫外光刻机等等，最关键的还是自主可拉。我们在光子芯片上的技术积累完全可以让我们实现弯道超车。(摘自网易新闻网2023.3.10)

1．下面对上述材料的理解和分析，不正确的一项是（）。

A．光刻机对“工作环境”相当挑：光要纯、要无尘、要安稳、耗电

B．半导体芯片生产过程中，将电路图从掩模上转移至硅片上这一难点可通过光刻来实现。

C．中国攻克3nm光子芯片技术，说明中国芯片技术已经达到了世界先进水平。

D．尽管我国已经成为有重要影响力的科技大国，但关键领域核心技术还面临一些瓶颈。

2．请根据材料二简要介绍芯片的生产过程。

3．请在材料三中的横线处分别拟写恰当的标题。

4．你对中国芯片的发展前景有什么看法请用一句话表达你的观点，并从材料中选择合适的论据加以论证。

（2024九上·南山期末）阅读

【材料一】

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