用于动态眼压测量的光学光栅柔性传感器及其制造方法.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(10)申请公布号CN110013218A

(43)申请公布日2019.07.16

(21)申请号CN201910249644.7

(22)申请日2019.03.29

(71)申请人华中科技大学

地址430074湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

(72)发明人李晓平夏金松史铁林张虹李贵刚汤自荣赵英俊

(74)专利代理机构华中科技大学专利中心

代理人尚威

(51)Int.CI

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

用于动态眼压测量的光学光栅柔性

传感器及其制造方法

(57)摘要

本发明公开了一种用于动态眼压测

量的光学光栅柔性传感器的制造方法，属

于动态眼压测量领域，包括：在硅衬底上

旋涂光刻胶，显影、定影得到由剩余光刻

胶形成的微纳米尺寸图纹；以剩余光刻胶

做掩膜，利用干法刻蚀硅衬底，得到纳米

尺寸图纹；除去剩余光刻胶，得到硅凹

模，将其图纹复制到树脂片；在所述树脂

片上喷银，然后进行微电铸，将树脂片上

的图纹复制在镍片上，得到镍凹模；将制

造隐形眼镜的液态原料或固态毛坯注入镍

凹模进行铸压，得到用于动态眼压测量的

光学光栅柔性传感器。本发明提供了用于

动态眼压测量的光学光栅柔性传感器的产

业化制造方法，从而为临床应用与研究提

供了产业化基础。

法律状态

法律状态公告日法律状态信息法律状态

2022-02-18授权授权

2019-08-09实质审查的生效实质审查的生效

2019-07-16公开公开

权利要求说明书

1.一种用于动态眼压测量的光学光栅柔性传感器的制造方法,其特征在于,包括如下

制造步骤:

(1)光刻步骤:首先在硅衬底上旋涂厚度为30nm~15μm的光刻胶,再对光刻胶进行光

刻曝光,显影、定影后在硅衬底上得到由剩余光刻胶形成的线宽为30nm~15μm的微

纳米尺寸图纹;

(2)干法刻蚀步骤:以剩余光刻胶做掩膜,利用干法刻蚀硅衬底,在其上得到深度为

30nm~15μm,线宽为30nm~15μm的微纳米尺寸图纹;

(3)压印步骤:清洗除去硅衬底上剩余光刻胶,得到具有微纳米尺寸图纹的硅凹模,以其

作为模板,利用压印将所述硅凹模的图纹复制到树脂片;

(4)微电铸步骤:在所述树脂片上喷银,然后进行微电铸,将树脂片上的图纹复制在镍片

上,得到多个厚度为0.04mm~0.15mm的镍凹模,所述镍凹模上具有深度为

30nm~15μm、线宽为30nm~15μm的微纳米尺寸图纹;

(5)模压成型步骤:将制造隐形眼镜的液态原料或固态毛坯注入镍凹模进行铸压,批量

得到具有深度为30nm~15μm、线宽为30nm~15μm的用于动态眼压测量的光学光栅

柔性传感器。

2.如权利要求1所述的一种用于动态眼压测量的光学光栅柔性传感器的制造方法,其

特征在于,光学光栅的参数Q包括Λ、W、M、H、D、α:

对于平行条纹光栅或环形条纹光栅:Λ-周期、W-线条顶部线宽、M-线条底部线宽、

H-槽深、D-槽的底部宽度、α侧壁角,W≤M,Λ=M+D,0°α≤90°;

对于柱状阵列光栅:Λ-周期、W-柱状线条顶部线宽、M-柱状线条底部线宽、H-柱高、

D-邻柱底部间距、α侧壁角,W≤M,Λ=M+D,0°α≤90°;

光学光栅的参数Q按照如下设计步骤确定:

S1、按照如下设计目标选取多组光学光栅的参数Q的解:

1)在给定的入射光下,观察到的衍射光谱信号呈高斯形;

2)在给定的入射光下,观察到的衍射光谱信号只存在零级反射和衍射,或只存在其他