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成都电子科技大学微电子器件2008-2016年考研初试真题+答案 .pdfVIP

成都电子科技大学微电子器件2008-2016年考研初试真题+答案 .pdf

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电子科技大学

2016年攻读硕士学位研究生入学考试试题

考试科目:832微电子器件

注:所有答案必须写在答题纸上,写在试卷或草稿纸上均无效。

一、填空题(共44分,每空1分)

1、PN结的内建电势也称为扩散电势,是指耗尽区中从()处到

()处的电位差。掺杂浓度越高,内建电势将越()。

2、根据耗尽近似和中性近似,在PN结势垒区内,()已完全耗尽;而在势垒区

之外,()浓度等于电离杂质浓度,维持电中性。

3、在相同的电场强度和温度下,锗材料和硅材料相比较,碰撞电离率更高的是(),

其原因是它的()更小。

4、在计算实际PN结的雪崩击穿电压或势垒电容时,如果结两侧掺杂浓度相差较小,浓度

梯度较小,而结深较大时,则可将其近似为()结求解。

5、温度升高时,PN结的齐纳击穿电压会(),因为()随温度升高减小了。

6、一个PN结二极管在制备完成后对其进行了电子辐照,该二极管的反向恢复时间将

(),原因是电子辐照在半导体中引入了()。

7、当PN结的正向电流增大时,其直流增量电阻会(),扩散电容会()。

(填“变大”,“变小”或“不变”)

8、双极型晶体管的基区宽度越小,其共发射极增量输出电阻越(),厄尔利电压

越()。(填“大”或“小”)

9、双极型晶体管的发射结注入效率是指()电流与

()电流之比。

10、双极型晶体管的基区发生大注入时,由于基区载流子浓度急剧增加,其发射结注入效率

γ会();同时,和PN结大注入相类似,基区内会发生()效应。

11、高频双极型晶体管的工作频率范围一般在:()f()。

12、双极型晶体管的高频优值是指()与()的乘积。

共5页第1页

13、小电流时,双极型晶体管的电流放大系数会下降,这是由于()

在()中所占的比例增加所引起的。

14、MOS结构中,半导体的表面势是指从()到()

的电势差。一般来说,实际MOS结构的表面势是()零的,这主要是由于

()以及()所引起。(第三个空填“”、“”或“=”)

15、为了降低栅氧化层电荷的影响,MOSFET通常会采用()晶面来制作。

16、为了提高MOSFET的饱和区跨导,应该()栅源电压,()栅氧化

层厚度,()沟道宽长比。

17、当短沟道MOSFET的沟道载流子发生速度饱和时,提高其栅源电压,将引起饱和

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