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现代材料分析方法试题及答案2.
《现代材料分析方法》期末试卷1
一、单项选择题(每题2分,共10分)
1.成分和价键分析手段包括【b】
(a)WDS、能谱仪(EDS)和XRD(b)WDS、EDS和XPS
(c)TEM、WDS和XPS(d)XRD、FTIR和Raman
2.分子结构分析手段包括【a】
(a)拉曼光谱(Raman)、核磁共振(NMR)和傅立叶变换红
外光谱(FTIR)(b)NMR、FTIR和WDS
(c)SEM、TEM和STEM(扫描透射电镜)(d)XRD、FTIR和
Raman
3.表面形貌分析的手段包括【d】
(a)X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)(b)SEM和透射电
镜(TEM)
(c)波谱仪(WDS)和X射线光电子谱仪(XPS)(d)扫描隧道显
微镜(STM)和
SEM
4.透射电镜的两种主要功能:【b】
(a)表面形貌和晶体结构(b)内部组织和晶体结构
(c)表面形貌和成分价键(d)内部组织和成分价键
5.下列谱图所代表的化合物中含有的基团包括:【c】
(a)–C-H、–OH和–NH2(b)–C-H、和–NH2,
(c)–C-H、和-C=C-(d)–C-H、和CO
二、判断题(正确的打√,错误的打×,每题2分,共10分)
1.透射电镜图像的衬度与样品成分无关。(×)2.扫描电镜的
二次电子像的分辨率比背散射电子像更高。(√)3.透镜的数值孔径
与折射率有关。(√)4.放大倍数是判断显微镜性能的根本指标。
(×)5.在样品台转动的工作模式下,X射线衍射仪探头转动的角速
度是样品转动角
速度的二倍。(√)
三、简答题(每题5分,共25分)
1.扫描电镜的分辨率和哪些因素有关?为什么?
和所用的信号种类和束斑尺寸有关,因为不同信号的扩展效应不
同,例如二次电子产生的区域比背散射电子小。束斑尺寸越小,产生
信号的区域也小,分辨率就高。
2.原子力显微镜的利用的是哪两种力,又是如何探测形貌的?
范德华力和毛细力。
以上两种力可以作用在探针上,致使悬臂偏转,当针尖在样品上方
扫描时,探测器可实时地检测悬臂的状态,并将其对应的表面形貌像
显示纪录下来。
3.在核磁共振谱图中出现多重峰的原因是什么?
多重峰的出现是由于分子中相邻氢核自旋互相偶合造成的。在外
磁场中,氢核有两种取向,
与外磁场同向的起增强外场的作用,与外磁场反向的起减弱外场
的作用。根据自选偶合的
组合不同,核磁共振谱图中出现多重峰的数目也有不同,满足
“n+1”规律
4.什么是化学位移,在哪些分析手段中利用了化学位移?
同种原子处于不同化学环境而引起的电子结合能的变化,在谱线
上造成的位移称为化学位移。在XPS、俄歇电子能谱、核磁共振等分
析手段中均利用化学位移。
5。拉曼光谱的峰位是由什么因素决定的,试述拉曼散射的过程。
拉曼光谱的峰位是由分子基态和激发态的能级差决定的。在拉曼
散射中,若光子把一部分能量给样品分子,使一部分处于基态的分子
跃迁到激发态,则散射光能量减少,在垂直方向测量到的散射光中,
可以检测到频率为(ν0-Δν)的谱线,称为斯托克斯线。相反,若光子
从样品激发态分子中获得能量,样品分子从激发态回到基态,则在大
于入射光频率处可测得频率为(ν0+Δν)的散射光线,称为反斯托克
斯线四、问答题(10分)
说明阿贝成像原理及其在透射电镜中的具体应用方式。
答:阿贝成像原理(5分):平行入射波受到有周期性特征物体
的散射作用在物镜的后焦面上形成衍射谱,各级衍射波通过干涉重新
在像平面上形成反映物的特征的像。在透射电镜中的具体应用方式(5
分)。利用阿贝成像原理,样品对电子束起散射作用,在物镜的后焦
面上可以获得晶体的衍射谱,在物镜的像面上形成反映
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