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摘要
随着现代科学技术的发展与微电子行业的兴起，铁氧体材料以其优异的磁性能获得了众多研究人员的青睐，同时为了实现电子元器件的小型化与高度集成化，薄膜材料也逐步替代块状材料。本文主要研究内容为探索用脉冲激光沉积制备（LFO）薄膜的方法，针对温度对薄膜结构与性能的影响，通过XRD图谱及磁滞回线的测量，发现一定范围内温度的提升能有效减少薄膜的非晶态，使得薄膜质量和磁性能都有所提升。针对薄膜厚度对薄膜结构与性能的影响，发现随着薄膜厚度的增加，薄膜内部发生晶格畸变，结晶质量与磁性能都处于下降状态。
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