表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法-编制说明.pdf

1、制（修）订国家标准的目的和意义

俄歇电子能谱（Augerelectronspectroscopy，简称AES）、X射线光电子能谱

仪（X-rayphotoelectronspectroscopy，简称XPS）、二次离子质谱（Secondary-ion

massspectrometry，简称SIMS）技术是目前应用最广泛的三种非常灵敏的表面分

析技术，可指认各种固体材料表面有机、无机化学成分,并且SIMS还能分析痕量

元素及同位素，是表面科学技术中不可或缺的分析技术。随着科技的发展，这三

种表面分析技术也得到了很大的提升。在我国各高校、科研院所、先进材料制造

行业，这三种表面分析技术得到广泛的应用。重视和发展AES、XPS、SIMS是

表面分析技术的一项重要工作。

现代AES、XPS、SIMS通常都具体深度剖面分析功能，实现对单层或多层

膜的表征。为了准确表征单层或多层膜，特别是单层或多层膜的表界面化学成分、

微量元素分布等的准确表征，需要最佳的深度分辨。为了达到这一目标，需要使

用适当的单层和多层参考物质来优化溅射深度分析参数，使俄歇电子能谱、X射

线光电子能谱、二次离子质谱中的仪器设置实现最佳深度分辨。因此，需要在

2006年已把ISO/TC201SC4最初制定的ISO14606（ISO14606:2000）国际标准

等同转化为国家标准（GT/B20175—2006）的基础上，继续要与国际接轨，把最

新版的ISO14606（ISO14606:2022）国际标准等同转化为国家标准。使得从事

AES、XPS、SIMS检测工作的各类分析测试机构和实验室，能够更好地为科研

技术、先进制造、检验检测提供客观、准确、有效的单层或多层膜的检测数据，

体现我国在分析检测高技术领域和标准领域的水平。同时也是为了与国际上实验

室学术团体的学术交流以及与国际组织间的技术交流。

2、工作简况

2000年10月，2015年12月、2022年11月，ISO14606《Surfacechemical

analysis—Sputterdepthprofiling—Optimizationusinglayeredsystemsasreference

materials》先后制定、修订后正式公布。全国微束分析技术委员会表面分析分技

术委员会于2006年已把最初制定ISO14606（ISO14606:2000）国际标准等同转

化为国家标准（GT/B20175—2006）。为了使俄歇电子能谱、X射线光电子能谱

和二次离子质谱的仪器分析技术尽快与国际接轨，全国微束分析技术委员会表面

分析分技术委员会于2023年提出将必威体育精装版版的ISO14606（ISO14606:2022）国际

标准等同转化为国家标准，对GT/B20175—2006进行修订。并列入国家标准化

管理委员会颁布的2023年制修订国家标准计划。

清华大学分析中心于1982年就引进了使俄歇电子能谱和X射线光电子能谱

仪，2012年引进了飞行时间二次离子质谱，专门成立了表面分析技术小组，在

金属、半导体、陶瓷、有机、无机、高分子、医学、生物等固体材料表面的有机、

无机、痕量元素等化学成分的分析，以及材料表面的深度剖面分析开展了大量的

工作，积累了丰富的实践经验。因此清华大学承担了本国家标准修订的起草工作。

在接到国家标准化管理委员会下达的国家标准修订计划后，清华大学分析中

心于2013年成立了标准修订工作组。2023年10月完成翻译了第一稿，形成了

标准草案；经过工作组内部讨论完善，形成了征求意见稿。

国际标准的等同转化既应尊重英文原文又要符合中文习惯，因此在翻译和技

术讨论的过程中，邀请了材料分析领域、特别是表面分析领域的专家进行讨论，

多次修改，形成了现有的文本。

3、标准编制原则和标准主要内容确定依据

本标准等同采用国际标准ISO14606:2022《Surfacechemical

analysis—Sputterdepthprofiling—Optimizationusinglayeredsystemsasreference

materials