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离子源对电弧沉积涂层的影响
离子源对电弧沉积涂层的影响
离子源对电弧沉积涂层的影响
摘要
多弧离子镀具有沉积速度快、沉积温度低、在电弧离子镀沉积涂层过程中，气体离化率对涂层生成的化学反应至关重要，离子源的复合可辅助气体离化。本题目拟通过气体离子源电流的改变，研究离子源对涂层生长反应的影响，优化参数及研究其影响涂层结构和性能规律。
本文采用多弧离子镀在硬质合金上制备AlCrN涂层，通过改变离子源参数来获得在不同离子源电流条件下的涂层。膜层与基材的结合力采用划痕仪进行测试;用表面性能测试仪测试膜层的耐磨性。
关键词：离子源电弧离子镀
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