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牙列缺失

第01讲全口义齿修复（一）

牙列缺失

上颌骨向上向内吸收、下颌骨向下向外吸收

下颌牙槽嵴的平均吸收速度是上颌的3～4倍

Atwood牙槽嵴吸收程度分级

一级：牙槽嵴吸收较少，有一定的高度和宽度，形态丰满

二级：刃状牙槽嵴

三级：高度明显降低，牙槽嵴大部分吸收而低平者

四级：牙槽嵴吸收达基骨，牙槽嵴后部形成凹陷者

无牙颌的解剖标志

所有的解剖标志都具有特定的生理意义

牙槽嵴：承担较大的（牙合）力

唇、颊系带：避让

结节、隆突：黏膜覆盖少，易发生义齿压痛，做好缓冲

上颌结节（颊间隙）：上颌义齿的颊侧边缘

切牙乳突：适当缓冲。上中切牙唇面至切牙乳突中点前8～10mm；上颌两侧尖牙牙尖顶的连线应通过切牙乳突中点。牙列缺失后，上颌两侧尖牙牙尖顶间的连线应位于切牙乳突后缘。

上颌硬区：腭隆突或上颌隆突，易压痛，支点易出现义齿翘动，需缓冲。

腭小凹：上颌全口义齿的后缘应在腭小凹后2mm处

颤动线：

√硬腭与软腭腱膜结合的部位——前颤动线

√“啊”线——后颤动线

√后堤区：前、后颤动线之间弓形区域，总义齿边缘封闭

颊棚区

磨牙后垫：下颌全口义齿后缘应盖过磨牙后垫1/2或全部。下颌第一磨牙（牙合）面应与磨牙后垫的1/2等高。从前后向看，下颌第二磨牙应位于磨牙后垫前缘。从颊舌向看，磨牙后垫颊面、舌面向前与下颌尖牙的近中面形成一个三角形，一般情况下，下颌后牙的舌尖应位于此三角形内。

下颌舌骨后窝（下颌舌骨后间隙、舌侧翼缘区）：下颌义齿舌侧基托的典型形态为S形，抵抗义齿向前脱位

无牙颌的功能分区

主承托区：牙槽嵴顶、除上颌硬区之外的硬腭水平部分、颊棚区。

副承托区：牙槽嵴的唇颊和舌腭侧斜面，抵抗义齿受到的水平向作用力，有利于义齿的稳定。

边缘封闭区：与义齿边缘接触的软组织部分。

缓冲区：上颌隆突、颧突、上颌结节的颊侧、下颌隆突、下颌舌骨嵴以及牙槽嵴上的骨尖、骨棱等。

义齿表面

组织面：义齿基托与其覆盖下的牙槽嵴和上腭等组织密切接触的表面。基托覆盖下的组织区域称为义齿承托区。密合。

咬合面：义齿人工牙的咬合接触应广泛而且平衡，以利于咬合压力在支持组织上均匀分布，利于义齿的稳定。功能。

磨光面：义齿与唇、颊、舌侧软组织和肌肉接触的表面。外形。

吸附力：附着力（不同种分子之间）、内聚力（同种分子之间）。大小与基托和黏膜之间的接触面积、密合程度，以及唾液的质和量（黏稠度）有关系。

表面张力：间隙愈小，表面张力也就愈大。

大气压力：良好的边缘封闭。

肌肉作用力：中性区，义齿基托磨光面。

固位影响因素

稳定影响因素

颌骨解剖形态

承托区黏膜性质

唾液质量

上下颌弓的位置关系

义齿的边缘伸展

人工牙排列位置与咬合关系

?

颌位关系

?

义齿基托磨光面形态

第02讲全口义齿修复（二）

印模的要求

精确的组织解剖形态

适度的伸展范围：不妨碍周围组织功能运动，尽量扩大印模范围。印模边缘应圆钝，有一定的厚度（2～3mm）。上颌后缘的两侧要盖过上颌结节到翼上颌切迹，后缘至腭小凹后4mm。下颌后缘盖过整个磨牙后垫，远中舌侧边缘向远中伸展到下颌舌骨后间隙，下缘跨过下颌舌骨嵴，不应妨碍口底和舌运动。

周围组织的功能形态

保持稳定的位置

印模材料选择

印模膏—热塑性，流动性、可塑性差，无弹性，制作个别托盘。

藻酸盐—流动性、可塑性较好，有弹性，制取初印和终印。

硅橡胶高粘性—流动性差、可塑性好，有弹性，制取初印。

硅橡胶低粘性—流动性好，细腻，有弹性，制取终印。

氧化锌丁香油—流动性好，细腻，无弹性，制取终印。

印模蜡—热塑性，细腻，制取终印和印模修整。

工作模型要求

模型完整，清晰、准确，充分反映出无牙颌组织面的细微纹路，边缘上显露出肌功能修整的痕迹

模型最薄处也不能少于10mm

模型边缘宽度3mm

包过印模边缘外侧3mm

围模灌注法、二次灌注法

模型后堤区的处理

后堤区加压制取终印模

在腭小凹后2mm至两侧翼上颌切迹的连线处，切一深度1～1.5mm的切迹，沿此切迹向前约5mm的范围内，将石膏模型轻轻刮去一层，愈向前刮除得愈少，使与上腭的黏膜面移行。

三种颌位

垂直距离——息止颌位法（大—高，小—低）

正中关系位

两侧口角线之间为上前牙的总宽度

唇高线至（牙合）平面的距离为上中切牙切2/3的高度

唇低