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摘要
原子级薄的二维过渡金属硫族化合物材料,在光电子器件应用领域表现出很大的潜力,近年来被广泛研究。然而,实际应用需要克服许多困难,其中就包括提高二维过渡金属硫族化合物的低光致发光,由于缺陷位置和掺杂的不受控,使得利用化学方法修复或钝化缺陷的以提高材料光致发光很困难,付出了巨大努力。本文采用了一种无机强酸硫酸的化学处理手段对单层二硫化钨、二硒化钨样品处理,利用该手段处理的二维二硫化钨单层光致发光强度得到了提高,证明了硫酸处理的有效性。处理后的二硫化钨单层样品带电激子峰强度最大提高了两倍左右,而三激子峰最大得到了约6.6倍的增强。处理后二维单层二硒化钨样品光致发光强度没有提升而是略有
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