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2008年2009年

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1磁控溅射231磁控溅射

2射频磁控溅射92射频磁控溅射

3zno薄膜93薄膜

4薄膜64zno薄膜

5退火55磁控溅射法

6负热膨胀46锂离子电池

7射频磁控反应溅射47钛膜

8光致发光48退火

9x射线衍射49电阻率

10锐钛矿310溅射功率

11钨酸锆311x射线衍射

12金红石312tin薄膜

13矫顽力313陶瓷靶材

14微结构314锗金属氧化物半导体

15tio2薄膜315铜互连

16被动调q216铁电薄膜

17薄膜热电偶217透过率

18薄膜光学218负极

19纳米硅镶嵌氮化硅薄膜219脉冲激光沉积

20红外透过率220结构

21磁性221纳米结构

22硬度222磁光性能

23瞬态切削温度223直流磁控溅射

24直流磁控溅射224界面层

25电阻率225生物相容性

26电致变色226热处理

27激光技术227溅射气压

28液氮228氧化钛铪

29氧分压

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