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高中化学工艺流程专题复习

高中化学工艺流程专题复

第一部分：常见的工艺手段、操作名称和目的知识归纳

一、设备：注意设备的选择和使用。

例如：

二、工艺流程

一）、原料处理阶段：

处理类型包括：

1.粉碎固体：目的是增大表面积，使固体充分反应或加快

反应速率。

注：常考提高浸出率的方法。

2.溶解原料：使用溶剂或有机溶剂等进行溶解、富集。

例如：

3.灼烧、焙烧：

仪器选择：酒精灯、三脚架、坩埚钳等，例如从海带中提

碘。

4.煅烧原料：可以改变结构，使一些物质能溶解，并使一

些杂质高温下氧化、分解。例如碳酸钙分解，煅烧高岭土等。

5.其他：

1）研磨或剪碎、榨汁等。

2）表面处理：如金属表面的氧化物用浸洗。

3）除去金属表面的油污等：用浸洗。

二）、分离提纯阶段：

理清原料和产品的关系→“多的要除、少的要加”→不清楚

的跳过。

I.提纯的方法包括：

1.氧化除杂：如除去Cu中的Fe。

1）氧化：用氧化剂将Fe氧化成易于后期处理的形式。

2）调节pH除杂：控制溶液的酸碱性使Fe离子形成氢氧

化物沉淀。加入的物质常为纯碱，但尽量不引入杂质。

2.试剂除杂：加试剂直接反应除去杂质。例如粗盐的提纯。

3.萃取、分液除杂：如从海水中提取溴和碘单质，利用溴

和碘单质易溶于有机溶剂。

1）溴和碘单质的颜色：

类型

水

有机溶剂

溴单质

3+

2+

碘单质

2+

2+

2）使用到的仪器：

4.过滤除杂：

使用到的仪器：

5.蒸馏除杂：

1）使用范围：

2）使用到的仪器：

3）常见类型：

II.常见题型或知识点考查：

1.加热的目的：加快化学反应或促进反应等。

2.降温反应的目的：防止某物质在高温时会参与的反应；

或为使化学平衡向着某方向，例如有H2O2参与的反应。

3.电解：注意：有新信息按新信息写，无新信息按教材知

识写。

4.氧化还原反应的考查：书写氧化还原反应时，找准氧化

还原状态，注意环境的酸碱性、反应的条件、符号，然后配平

方程式。

三）、获得产品阶段流程：结晶→过滤→洗涤→干燥

1）结晶方法：

①蒸发结晶：一般适用于溶质且该物质热稳定性好（不会

热分解）的结晶析出。例如从食盐水中得到氯化钠晶体。

要注意金属离子易水解，需要控制条件或气体氛围，以抑

制其水解，例如制备无水MgCl

2

溶液。

蒸发浓缩和冷却结晶的目的是让溶质随温度变化而析出，

通常用于铵盐、硝酸盐等盐类的结晶析出。这种过程可以用图

像表示溶解度与温度的关系。

蒸发结晶和趁热过滤的目的是让溶质随温度变化而析出，

防止某些物质在降温时析出，例如除去氯化钠溶液中的杂质。

趁热过滤时可以使用漏斗或用热毛巾捂住普通漏斗外壁，以防

止因温度下降而析出杂质。

洗涤的目的是去除晶体表面的杂质。洗涤沉淀时，需要将

蒸馏水加入漏斗中，浸没沉淀，待水自然流下后，重复操作

2-3次。洗涤类型包括水洗、冷水洗或乙醇洗。在水洗后乙醇

洗的目的是降低溶解度，减少产品的损失。检验晶体表面洗净

的方法可以取最后一次洗涤液少许于试管中，加入XXX试剂

观察XXX现象，以确保沉淀已洗涤干净。

干燥的方法包括。

常见的工艺手段、操作名称和目的：

1.腐蚀：有酸性物质生成会腐蚀设备。

2.增大接触面积、升温、增大溶液的浓度、搅拌等可以增

加反应速率。

3.泥三角、坩埚等可用于处理难溶的物质。

4.蒸馏除杂：适用于混溶的两种或多种液体，需要使用铁

架台、酒精灯、石棉网、蒸馏烧瓶、温度计、冷凝管、牛角管、

锥形瓶等设备。

5.化学反应速率和平衡可以通过添加氧化剂、还原剂、调

节酸碱性等方式实现。

6.蒸发结晶适用于单一、好溶、酸性物质，而小结晶适用

于多溶质、不稳定的物质。在蒸发结晶时，可以使用KNO

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