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《磁控溅射制备TiO2薄膜研究》

一、引言

磁控溅射技术是一种重要的薄膜制备技术，具有制备高质量、高纯度、高均匀性的薄膜材料的能力。其中，TiO2薄膜因其独特的物理和化学性质，在光催化、光电转换、气体传感器等领域具有广泛的应用前景。本文旨在研究磁控溅射制备TiO2薄膜的工艺过程及其性能研究。

二、磁控溅射技术概述

磁控溅射技术是一种物理气相沉积技术，利用高能粒子轰击靶材表面，使靶材原子或分子从表面溅射出来并沉积在基底上形成薄膜。磁控溅射技术具有溅射速率高、薄膜均匀性好、基底温度低等优点。在制备TiO2薄膜时，磁控溅射技术能够有效地控制薄膜的成分、结构和性能。

三、实验部分

1.材料与设备

实

该用户很懒，什么也没介绍

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