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氧气压力对PLD生长Ga2O3薄膜质量影响
的研究
作者：王磊
来源：《科学家》2016年第06期
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摘要：本文使用脉冲激光沉积（PLD）的方法在蓝宝石（O001）晶面上制备B-Ga2O3薄
膜，并且系统的研究了制备过程中氧气压力对它的结构和性质的影响。由于氧化镓薄膜生长的
条件不同，所生长出的薄膜在性质上也会有差异，本文借助x射线衍射，透射电子显微镜，原
子力显微镜等装置对不同的氧气压力条件下生长的薄膜的质量和表面形态的影响进行了系统的
研究。脉冲激光沉积可以在衬底温度较低为时生长薄膜，并可以通过控制氧气压力来控制镓原
子与氧原子的结合，从而生长出质量最优的氧化镓薄膜。
关键词：氧气压力；PLD；氧化镓；薄膜质量
中图分类号TN3文献标识码A文章编号2095-6363（2016）06-0163-03
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