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热处理对喷墨打印过程中层间腐蚀和QDs薄膜结构的影响及其调控机制.pdf

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    摘要

    量子点发光二极管（QLED）器件具有色域广、功耗低、寿命长以及制备成本低等

    优势，有望发展成为新一代显示技术。虽然QLED器件的性能已经满足商业化要求，但

    QLED器件的大面积图案化制备仍是难题。喷墨打印技术能够大面积制备图案化的

    QLED器件，具有材料利用率高、无需掩模版等优势，是促进QLED器件商业化应用的

    重要技术。但通常喷墨打印QLED器件制备过程中，由于墨水溶剂在空穴传输层（TFB）

    层上自然挥发时间较长，一方面容易导致溶剂对TFB层的腐蚀，从而影响器件性能；另

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