T_WHQASA 12—2024 1 0. 5G 化学气相沉积设备用下部加热基座.pdfVIP

ICS71.120.99

CCSG92

团体标准

T/WHQASA12—2024

10.5G化学气相沉积设备用下部加热基座

lowerheatingsusceptorproductsof10.5Gchemicalvapordepositionequipment

2024-12-30发布2024-12-30实施

芜湖市质量与标准化协会发布

T/WHQASA12—2024

前言

本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定

起草。

本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

本文件由芜湖通潮精密机械股份有限公司提出。

本文件由芜湖市质量与标准化协会归口。

本文件起草单位：芜湖通潮精密机械股份有限公司、合肥京东方显示技术有限公司、芜湖芯通半导

体材料有限公司、芜湖长信科技股份有限公司、芜湖晶纯科技有限公司、安徽润景信息科技有限公司。

本文件主要起草人：司奇峰、王慧、刘其贵、何新玉、熊宏祥、王玉亮、王宜申、吴小杰、郑建军、

王茹、黄锦祥、张丽。

I

T/WHQASA12—2024

10.5G化学气相沉积设备用下部加热基座

1范围

本文件规定了10.5G化学气相沉积设备用下部加热基座产品（以下简称“下部加热基座”）的技术

要求、检测方法、检验规则以及包装、运输和贮存。

本文件适用于10.5G化学气相沉积设备用下部加热基座产品的研制、生产、检验和交付。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，

仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其必威体育精装版版本（包括所有的修改单）适用于本

文件。

GB/T4957-2003非磁性基础金属上非导电覆盖层覆盖层厚度测量涡流法

GB/T18719-2002热喷涂术语、分类

GB/T36176-2018真空技术氦质谱真空检漏方法

3术语和定义

GB/T18719-2002界定的以及下列术语和定义适用于本文件。

3.1

下部加热基座lowerheatingsusceptor

化学气相沉积（CVD）工艺设备的下部加热电极，用于化学气相沉积时对玻璃基板进行承载和均匀

加热。

3.2

Bush孔径Bushaperture

化学气相沉积设备用下部加热基座背面的安装陶瓷孔直径。

4要求

4.1产品结构

下部加热基座的结构说明如下：

a）结构：产品表面阳极氧化膜、铝基板、内圈加热丝、外圈加热丝、热电偶、加热丝引出杆；

b）加热方式：内圈和外圈电阻丝加热；

c）电源连接方式：加热丝加电；

d）产品结构见图1。

1

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图1下部加热基座结构

4.2外观质量

下部加热基座阳极膜表面应平整光洁，不应有划伤、膜层开裂、毛刺等缺陷。

4.3主要技术指标

下部加热基座的技术指标见表1。