《掠射角磁控溅射沉积Ni_xO_y薄膜及电致变色性能研究》.docx

《掠射角磁控溅射沉积Ni_xO_y薄膜及电致变色性能研究》

一、引言

随着科技的发展，薄膜材料在电子器件、光电器件等领域的应用越来越广泛。其中，Ni_xO_y薄膜因其独特的物理和化学性质，如高导电性、高透明度及良好的电致变色性能等，受到了广泛关注。掠射角磁控溅射技术作为一种先进的薄膜制备技术，在制备高质量的Ni_xO_y薄膜方面具有显著优势。本文将对掠射角磁控溅射沉积Ni_xO_y薄膜及其电致变色性能进行详细研究。

二、实验部分

（一）实验材料及设备

实验材料主要包括Ni靶材、Ar气体等。实验设备为掠射角磁控溅射设备，包括真空室、溅射靶材、基底、电源、控制系统等。

（二）实验方法

1.制备过