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《中国极紫外光刻掩模坯料行业深度洞察与前景展望》
一、核心观点
1.1行业崛起,前景广阔
极紫外光刻掩模坯料作为半导体关键材料,市场需求持续增长,行业发展潜力巨大。随着半导体产业的飞速发展,对高精度、高可靠性的光刻掩模坯料需求日益旺盛。据统计,2023年全球EUV光掩模坯料市场规模大约为2.15亿美元,预计2030年将达到6.04亿美元,年复合增长率高达15.6%。这一数据充分显示了行业的强劲增长态势和广阔的发展前景。
1.2技术创新引领未来
技术创新对极紫外光刻掩模坯料行业起着关键的推动作用。不断提升产品性能和质量是行业持续发展的核心动力。例如,EUV掩模坯料的多层
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