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基于AZ5214保护层的As2S3硫系光波导制备及性能研究.pdf

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摘要

摘要

随着硫系光子器件的发展,对高质量硫系光波导的需求日益增多。在硫系

光波导制备方面,最常用的是干法刻蚀,但该方法在显影过程中使用的碱性显

影液会腐蚀硫系玻璃材料尤其是AsS,为了改善这一状况,研究者提出在硫系

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波导的制备过程中增加保护层。本文发现AZ5214光刻胶在一定的曝光剂量、合

适的显影时间下会残存一层底膜附着在AsS薄膜上,该

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